[实用新型]覆铜箔设备

权利要求书

1.一种覆铜箔设备，包括底座(10)、上、下输送装置(20、30)、结合平台(40)、结合支架(50)、钢板平台(60)、钢板输送装置(90)和上、下吸取装置(70、80)，以使用方向为基准，上、下输送装置分别定位于底座上，且上输送装置平行位于下输送装置的上方，设上下输送装置输送方向为前后方向，设水平面上垂直与上下输送装置的输送方向的方向为左右方向，结合平台纵向能够升降定位于底座上，且结合平台位于上、下输送装置前方的一端，两个结合支架固定定位于底座上，且该两个结合支架分别位于结合平台左右方向两侧的上方，钢板平台固定于底座上，且钢板平台位于结合平台前方的一端，上、下吸取装置分别能够沿纵向和前后方向往复移动定位于底座上，上吸取装置上设有两个沿纵向延伸的上吸盘(71)，下吸取装置上设有两个沿纵向延伸的下吸盘(81)，两个上吸盘分别分布于上输送装置的左右两侧，两个下吸盘分别分布于下输送装置的左右两侧，上、下吸盘上分别设有若干与上、下输送带上铜箔相对应的上、下吸嘴(711、813)，钢板输送装置能够将钢板平台上的钢板移动到结合支架上。

2.根据权利要求1所述的覆铜箔设备，其特征是：所述上吸盘上的上吸嘴的方向朝下，下吸盘上的下吸嘴方向朝上。

3.根据权利要求2所述的覆铜箔设备，其特征是：所述下吸取装置上的两个下吸盘上的下吸嘴间的距离小于结合平台左右方向的宽度，该两个下吸盘分别包括沿前后方向延伸的吸盘主杆(811)和若干沿左右方向延伸的吸盘支杆(812)，所述若干吸盘支杆沿前后方向间隔排列于吸盘主杆上，下吸嘴固定于吸盘支杆的端部，结合平台左右两侧边上分别设有若干沿前后方向间隔排列的供下吸盘上的下吸嘴和吸盘支板穿过的吸嘴槽(43)。

4.根据权利要求1所述的覆铜箔设备，其特征是：所述下吸盘上左右两侧的下吸嘴间的距离大于结合平台左右方向的宽度，下吸盘上的下吸嘴方向为朝下或朝上。

5.根据权利要求1、3或4所述的覆铜箔设备，其特征是：所述结合平台纵向能够升降定位于底座上的结构为：结合平台的下方设有气缸升降装置(45)和偏心升降装置(41)中的一种，其中偏心升降装置包括一伺服马达(411)、一圆盘(412)一连杆(413)，所述伺服马达固定于底座上，圆盘能够转动定位于底座上，且圆盘轴向水平，伺服马达的输出轴(4111)与圆盘固连，连杆一端与圆盘偏心铰接，连杆另一端与结合平台铰接，结合平台下方还设有若干导柱(42)，该导柱下方能够轴向滑动插设于底座内。

6.根据权利要求1所述的覆铜箔设备，其特征是：所述上、下吸取装置分别能够沿纵向和前后方向往复移动定位于底座上的结构为：底座上设有两个沿前后方向延伸的上轨道(13)和第一驱动装置(14)，上吸取装置还包括上吸盘架(72)，上吸盘架的顶端铰接有一上吸盘臂(73)，各上吸盘架沿左右方向的外侧还设有第一压缸(74)，第一压缸的压杆与上吸盘臂铰接，上吸盘臂的顶端还设有第二压缸(75)，第二压缸的压杆上连接有一横杆(76)，上吸取装置的上吸盘设于横杆的端部，两个上吸盘架分别滑动定位于底座的上轨道上，第一驱动装置驱动上吸盘架沿上轨道延伸方向滑动，底座上还设有两个沿前后方向延伸的下轨道(15)和第二驱动装置(16)，下吸取装置还包括下吸盘架(82)，下吸盘架沿左右方向的外侧设有沿纵向放置的第三压缸(83)，第三压缸的压杆与下吸盘固连，两个下吸盘架分别滑动定位于底座的下轨道上，第二驱动装置驱动下吸盘架沿下轨道延伸方向滑动。

7.根据权利要求1、3或4所述的覆铜箔设备，其特征是：所述结合平台左右两侧的下方分别设有一喷气装置(44)，所述喷气装置上若干沿前后方向间隔排列的喷气嘴，各喷气嘴出气方向为斜向结合平台外上方。

8.根据权利要求7所述的覆铜箔设备，其特征是：所述喷气装置包括一结合板(441)、一喷气主杆盒若干喷气支杆，所述结合板包括呈折弯状相互连接的一平台部(4411)和一喷气部(4412)，且该平台部与结合平台底部相连，喷气主杆(442)与结合板的喷气部相连通，若干喷气支杆(443)间隔的连接于喷气主杆上并与之相连通，各喷气嘴(444)分别设于喷气支杆端部。

9.根据权利要求1所述的覆铜箔设备，其特征是：所述两结合架沿左右方向的内侧分别设有若干前前后方向间隔排列的惰轮(51)，钢板平台上表面上设有若干沿前后方向间隔排列的滑轮(61)。

10.根据权利要求1所述的覆铜箔设备，其特征是：还设有钢板架(91)，钢板移动装置设于钢板架上，刚板移动装置包括沿左右方向相向布置的夹爪(92)，底座上设有第三导轨(17)和第三驱动装置(18)，钢板架两端分别滑动设于该第三导轨上，第三驱动装置驱动钢板架沿第三导轨往复移动。