[实用新型]一种涮烤一体装置有效
| 申请号： | 201420289665.4 | 申请日： | 2014-06-03 |
| 公开（公告）号： | CN203885334U | 公开（公告）日： | 2014-10-22 |
| 发明（设计）人： | 韦红陵 | 申请（专利权）人： | 中山市韦斯华电器发展有限公司 |
| 主分类号： | A47J37/01 | 分类号： | A47J37/01;A47J27/00;A47J36/00 |
| 代理公司： | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人： | 温旭 |
| 地址： | 528427 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 一体 装置 | ||
1.一种涮烤一体装置，包括烤盘，其特征在于：还包括一环形烤盘座和涮锅，所述涮锅包括上开口的锅体和锅盖；
所述环形烤盘座包括环形集油槽和周向壁板；所述烤盘上有一中心孔；所述烤盘设置在周向壁板的上部，周向壁板的上部支撑烤盘，所述涮锅的锅体与中心孔可拆卸配合。
2.根据权利要求1所述的一种涮烤一体装置，其特征在于：所述环形集油槽沿轴线的截面呈弧形或上开口的框形。
3.根据权利要求1所述的一种涮烤一体装置，其特征在于：所述烤盘呈锥台形。
4.根据权利要求1、2或3所述的一种涮烤一体装置，其特征在于：所述烤盘上有环绕中心孔的环形凸起。
5.根据权利要求1、2或3所述的一种涮烤一体装置，其特征在于：所述涮锅的锅体上有一跌级，跌级下部的锅体穿过中心孔，烤盘支撑跌级。
6.根据权利要求4所述的一种涮烤一体装置，其特征在于：所述涮锅的锅体上有一跌级，跌级下部的锅体穿过中心孔，烤环形凸起支撑跌级。
7.根据权利要求1、2或3所述的一种涮烤一体装置，其特征在于：所述烤盘的径向边缘有呈环形均匀分布的集油孔，所述集油孔与环形集油槽相对。
8.根据权利要求7所述的一种涮烤一体装置，其特征在于：所述烤盘的中心孔和集油孔之间的烤盘上有开口朝中心孔的框槽或有长条形凹槽。
9.根据权利要求5所述的一种涮烤一体装置，其特征在于：所述烤盘的径向边缘有呈环形均匀分布的集油孔，所述集油孔与环形集油槽相对；
所述烤盘的中心孔和集油孔之间的烤盘上有开口朝中心孔的框槽或有长条形凹槽。
10.根据权利要求6所述的一种涮烤一体装置，其特征在于：所述烤盘的径向边缘有呈环形均匀分布的集油孔，所述集油孔与环形集油槽相对；
所述烤盘的中心孔和集油孔之间的烤盘上有开口朝中心孔的框槽或有长条形凹槽。
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