[实用新型]用于制备抗PID薄膜的装置

权利要求书

1.一种用于制备抗PID薄膜的装置，其特征在于：包括臭氧发生器和箱体(1)，箱体内具有密闭的容置空间；所述箱体侧面设有门(2)；

所述箱体的顶部设有进气孔，底部设有排气孔；

所述门的底部与箱体铰接；门和箱体之间设有开门限位器(3)，使门打开的角度为45~90度；

所述门的内表面设有至少1对支架(4)，所述支架与小花篮(5)配合，使小花篮挂设于支架上，且关门时小花篮在箱体内处于竖直状态。

2.根据权利要求1所述的用于制备抗PID薄膜的装置，其特征在于：所述臭氧发生器为紫外线臭氧发生器或电弧臭氧发生器。

3.根据权利要求1所述的用于制备抗PID薄膜的装置，其特征在于：所述门和箱体之间设有开门限位器，使门打开的角度为60度。

4.根据权利要求1所述的用于制备抗PID薄膜的装置，其特征在于：所述支架包括横杆(6)和支撑杆(7)，横杆与门相互垂直设置，支撑杆、横杆和门形成直角三角形结构，三角形所在的面与门的侧边平行，支撑杆位于横杆靠向门底边一侧。

5.根据权利要求4所述的用于制备抗PID薄膜的装置，其特征在于：所述横杆的长度为14~16厘米，支撑杆和门的交点与横杆和门的交点之间距离为2~20厘米。

6.根据权利要求1所述的用于制备抗PID薄膜的装置，其特征在于：所述箱体内的容置空间深15~16厘米，宽19~20厘米，高40~100厘米。

7.根据权利要求1所述的用于制备抗PID薄膜的装置，其特征在于：所述门的内表面设有2~5对支架，各对支架间的距离为17~20厘米，最后一对支架距离门底边的距离为17~25厘米。