[实用新型]高纯平面铝钕靶的制作装置有效

专利信息
申请号: 201420335124.0 申请日: 2014-06-20
公开(公告)号: CN203947156U 公开(公告)日: 2014-11-19
发明(设计)人: 胡习光;秦国强;常金永;张志祥 申请(专利权)人: 江阴恩特莱特镀膜科技有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;B22D21/04
代理公司: 无锡市大为专利商标事务所(普通合伙) 32104 代理人: 殷红梅;刘海
地址: 214437 江苏省无锡市江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 高纯 平面 铝钕靶 制作 装置
【权利要求书】:

1.一种高纯平面铝钕靶的制作装置,包括真空炉体外壳(9),在真空炉体外壳(9)的内部设置炉体(2),炉体(2)上部设置炉盖(1);其特征是:所述炉体(2)包括炉胆(5)和设置在炉胆(5)外表面的保温层(4),在炉胆(5)的内壁设置电炉丝(12),在炉胆(5)的底部设置冷却底座(16),冷却底座(16)的上放置模具,冷却底座(16)的上表面呈锯齿状,在冷却底座(16)上设置冷却水通道,冷却水通道两端分别与冷却水进水管(6)和冷却水出水管(13)连接;在所述炉盖(1)上设置通气孔(7),在真空炉体外壳(9)的顶部设置通气管(15),在真空炉体外壳(9)的中部设置抽气管(11)。

2.如权利要求1所述的高纯平面铝钕靶的制作装置,其特征是:所述模具呈柱体状,模具的内腔为放置铝钕合金块的空腔,模具的底表面呈与冷却底座(16)上表面相配合的锯齿状。

3.如权利要求1所述的高纯平面铝钕靶的制作装置,其特征是:在所述炉胆(5)内壁设置热电偶(10)。

4.如权利要求1所述的高纯平面铝钕靶的制作装置,其特征是:在所述保温层(4)上设置电极(3),电极(3)与电炉丝(12)连接。

5.如权利要求1所述的高纯平面铝钕靶的制作装置,其特征是:在所述真空炉体外壳(9)的上部设置进水管(8),在真空炉体外壳(9)的下部设置出水管(14)。

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