[实用新型]一种新型磁控轴瓦溅镀机

权利要求书

1.一种新型磁控轴瓦溅镀机，包括溅渡壳体（1），溅渡壳体（1）内设有溅渡腔（2），所述溅渡腔（8）设有溅射靶支撑架（3）和轴瓦支撑架（4），所述溅渡壳体（1）底部设有底座（7），其特征在于：所述溅射靶支撑架（3）和所述轴瓦支撑架（4）设置在溅渡壳体（1）底部底座（7）上，所述溅射靶支撑架（3）中间设有溅射靶架轴（10），所述溅射靶架轴（10）底部设有旋转环（11），所述旋转环（11）通过连接杆（6）与溅射靶架轴（10）一侧的溅射靶支撑架（3）边缘连接,所述溅渡壳体（1）最下方设有电机，所述旋转环（11）与所述电机输出轴相连接。

2.根据权利要求1所述一种新型磁控轴瓦溅镀机，其特征在于：所述溅射靶架轴（10）两侧的溅射靶支撑架（3）各活动设有一块溅射靶（2），所述所述溅射靶（2）的双面设有凹槽，正面凹槽的底面为镍靶、背面凹槽的底面合金靶。