[实用新型]半导体清洗机台的加热系统有效

专利信息
申请号: 201420413149.8 申请日: 2014-07-24
公开(公告)号: CN204074670U 公开(公告)日: 2015-01-07
发明(设计)人: 倪惠彬 申请(专利权)人: 映瑞光电科技(上海)有限公司
主分类号: B08B13/00 分类号: B08B13/00;B08B3/10
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 郑玮
地址: 201306 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 半导体 清洗 机台 加热 系统
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及半导体制造领域,尤其涉及一种半导体清洗机台的加热系统。

背景技术

在进行半导体制造时,例如生产LED(发光二极管)芯片,在制造过程中均需要在不同工艺之后对LED芯片进行相应的清洗。清洗通常采用酸液、去离子水等溶液,并在预定温度下清洗才能够达到较好的清洗效果。因此,在进行清洗过程中,均需要采用加热系统进行加热。

通常情况下,加热系统设于半导体清洗机台的内部,请参考图1,图1为现有技术中加热系统的结构示意图,所述加热系统包括4片加热片1,4片加热片1采用并联的方式连接,并外接220V电源。加热片1将电能转化为热量,为清洗工艺提供加热。

采用此种连接方式,加热片1的功率高达1631W,加热片1的负荷为1.58W/cm2,但从行业经验来判断,加热片1的负荷应小于0.6W/cm2才能够保证其使用寿命不受影响。因此,采用现有的连接方式,导致加热片1的负荷太高,致使半导体清洗机台因为加热片1的烧坏而频繁停机,停机需要更换加热片1,而且每次停机更换加热片1的时间长达12小时,一方面不利于半导体清洗机的利用率,另一方面大大增加了使用成本。因此,本领域技术人员急需解决上述技术问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种半导体清洗机台的加热系统,能够减少加热片的负荷,提供加热片的使用寿命,减少成本。

为了实现上述目的,本实用新型提出了一种半导体清洗机台的加热系统,包括:若干个片加热片,所述加热片两个一组并联后再将并联的多组串联组成加热片组,所述加热片组外接电源。

进一步的,所述加热片组通过第一控制电路外接加热电源,所述第一控制电路设有一断电继电器和接触器,所述断电继电器控制所述接触器的通断。

进一步的,所述加热片组还通过第二控制电路外接保温电源,所述第二控制电路设有通电延时继电器。

进一步的,还包括温控电路,所述温控电路设有断电继电器和通电延时继电器的输入信号端以及温控器开关。

进一步的,所述温控电路外接一24V直流电源。

进一步的,所述加热片为4个,其中两个一组并联,再并联的两组串联组成加热片组。

本实用新型与现有技术相比的有益效果主要体现在:将若干个加热片中的任意两个一组并联,再将并联的多个组串联从而组成加热片组,减小单个加热片的负荷,延长加热片的使用寿命,进而降低生产成本。

进一步的,为了缩短加热的时间,在需要加热时,第一控制电路导通,第二控制电路断开,使加热片组外接电压较高的加热电源,加大加热效率,在温度达到要求后,第二控制电路导通,第一控制电路断开,使加热片组外接电压较低的保温电源,从而进行保温,避免温度过高。

附图说明

图1为现有技术中加热系统的结构示意图;

图2为本实用新型实施例一中半导体清洗机台的加热系统的结构示意图;

图3为本实用新型实施例二中半导体清洗机台的加热系统的结构示意图。

具体实施方式

下面将结合示意图对本实用新型的半导体清洗机台的加热系统进行更详细的描述,其中表示了本实用新型的优选实施例,应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本实用新型,而仍然实现本实用新型的有利效果。因此,下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道,而并不作为对本实用新型的限制。

为了清楚,不描述实际实施例的全部特征。在下列描述中,不详细描述公知的功能和结构,因为它们会使本实用新型由于不必要的细节而混乱。应当认为在任何实际实施例的开发中,必须做出大量实施细节以实现开发者的特定目标,例如按照有关系统或有关商业的限制,由一个实施例改变为另一个实施例。另外,应当认为这种开发工作可能是复杂和耗费时间的,但是对于本领域技术人员来说仅仅是常规工作。

在下列段落中参照附图以举例方式更具体地描述本实用新型。根据下面说明和权利要求书,本实用新型的优点和特征将更清楚。需说明的是,附图均采用非常简化的形式且均使用非精准的比例,仅用以方便、明晰地辅助说明本实用新型实施例的目的。

实施例一

请参考图2,在本实施例中,提出了一种半导体清洗机台的加热系统,包括:若干个片加热片11,所述加热片11两个一组并联后再将并联的多组串联组成加热片组10,所述加热片组10外接电源。

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