[实用新型]薄膜沉积设备及其基材传输装置

权利要求书

1.一种用于薄膜沉积设备的基材传输装置，其特征在于该基材传输装置包含：

若干机械手臂，设置于一传输室；

若干基材工位，设置于至少一反应室；

其中所述若干机械手臂与所述至少一反应室内的基材工位对应，以将基材放置至所述至少一反应室内相对应的基材工位或自相对应的基材工位上取走基材。

2.如权利要求1所述的基材传输装置，其特征在于所述至少一反应室内的基材工位呈阵列分布，及所述基材是晶圆。

3.如权利要求2所述的基材传输装置，其特征在于所述阵列是2×2或2×3阵列。

4.如权利要求1所述的基材传输装置，其特征在于所述至少一反应室内的基材工位中与所述传输室距离相同的基材工位组成一基材工位组，所述若干机械手臂中对应该基材工位组的机械手臂组成一机械手臂组，该机械手臂组连接同一回转机构。

5.如权利要求4所述的基材传输装置，其特征在于对应于距离所述传输室较远的基材工位组的机械手臂组的机械手臂相较于对应于距离所述传输室较近的基材工位组的机械手臂组的机械手臂更长。

6.如权利要求4所述的基材传输装置，其特征在于所述若干机械手臂呈上下多层分布，不同机械手臂组位于不同层。

7.如权利要求4所述的基材传输装置，其特征在于不同回转机构可独立旋转和伸展。

8.如权利要求1所述的基材传输装置，其特征在于所述至少一反应室内的基材工位没有连接回转机构。

9.如权利要求1所述的基材传输装置，其特征在于所述基材传输装置进一步包括一处理器，该处理器控制所述若干机械手臂放置基材至所述至少一反应室内相对应的基材工位或自相对应的基材工位上取走基材的顺序，及当存在多个反应室时，控制所述若干机械手臂在不同反应室中传送基材的顺序。

10.一种薄膜沉积设备，其包含权利要求1-9中任一者所述的基材传输装置。