[实用新型]薄膜沉积设备及其基材传输装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及薄膜沉积领域，特别是涉及薄膜沉积设备及其基材传输装置。

背景技术

随着半导体技术的发展，半导体基材(例如但不限于，晶圆)在越来越多的领域，如集成电路、太阳能、发光二极管、及光波导等被广泛应用。为半导体基材实施薄膜沉积的薄膜沉积设备通常包含前端模块、装载室、基材传输室及反应室。待实施薄膜沉积的基材从前端模块经装载室传输到基材传输室再传输至反应室进行薄膜沉积。基材传输室内可设有双层双机械手臂，每次可传输两片基材至反应室。对应基材传输室，反应室内工位呈环形均匀分布，且工位可旋转以便基材传输室的机械手臂可将基材放置相应的空工位上或自工位上取走基材。为保证已放置的基材不掉落，反应室内工位旋转较慢，需较长的时间才能在所有工位上放满或取完基材，基材传输效率较低。

因此，尽管薄膜沉积设备由单反应室改为多反应室可在一定程度上提高产能，然半导体基材的大规模生产仍受制于基材传输效率。

实用新型内容

本实用新型的目的之一在于提供一薄膜沉积设备及其基材传输装置，该薄膜沉积设备及其基材传输装置可不依赖于基材工位的回转而同时实施多片基材传输。

本实用新型的一实施例提供一用于薄膜沉积设备的基材传输装置，其包含：设置于一传输室的若干机械手臂，及设置于至少一反应室的若干基材工位。其中若干机械手臂与至少一反应室内的基材工位对应，以将基材放置至所述至少一反应室内相对应的基材工位或自相对应的基材工位上取走基材。

在本实用新型的一实施例中，所述至少一反应室内的基材工位呈阵列分布，该阵列是，例如但不限于，2×2或2×3阵列。所述至少一反应室内的基材工位中与传输室距离相同的基材工位组成一基材工位组，若干机械手臂中对应于该基材工位组的机械手臂组成一机械手臂组，该机械手臂组连接同一回转机构。对应于距离传输室较远的基材工位组的机械手臂组的机械手臂相较于对应于距离传输室较远的基材工位组的机械手臂组的机械手臂更长。

在另一实施例中，若干机械手臂呈上下多层分布，不同机械手臂组位于不同层。不同回转机构可独立旋转和伸展。所述至少一反应室内的基材工位没有连接回转机构。该传输装置可进一步包含一处理器，该处理器控制若干机械手臂放置基材至所述至少一反应室内相对应的基材工位或自相对应的基材工位上取走基材的顺序，及当存在多个反应室时，控制所述若干机械手臂在不同反应室中传送基材的顺序。

在本实用新型又一实施例中，基材传输装置所传输的基材是晶圆。

本实用新型的实施例还提供包含上述基材传输装置的薄膜沉积设备。

根据本实用新型实施例的薄膜沉积设备及其基材传输装置可节省反应室内用于基材工位的回转机构，在节省成本的同时，可提高设备的稳定性和基材传输的效率。

附图说明

图1所示是根据本实用新型一实施例的薄膜沉积设备的俯视图，其中基材传输装置处于待工作状态

图2所示是图1中的薄膜沉积设备的俯视图，其中基材传输装置的第一机械手臂组处于取/放操作状态

图3所示是图1中的薄膜沉积设备的俯视图，其中基材传输装置的第二机械手臂组处于取/放操作状态

图4所示是根据本实用新型另一实施例的薄膜沉积设备的俯视图，其中基材传输装置处于待工作状态

图5所示是图4中的薄膜沉积设备的俯视图，其中基材传输装置的第一机械手臂组处于取/放操作状态

图6所示是图4中的薄膜沉积设备的俯视图，其中基材传输装置的第二机械手臂组处于取/放操作状态

具体实施方式

为更好的理解本实用新型的精神，以下结合本实用新型的部分优选实施例对其作进一步说明。

现有薄膜沉积设备中的基材传输装置是依赖于基材传输室内的机械手臂和反应室旋转的基材工位协同完成基材传输的，基材传输的效率取决于机械手臂的工作速度和基材工位的旋转速度。而为避免其上的基材摔落，反应室内基材工位的旋转速度需维持低速。这种情况下，即使基材传输室挂接多个反应室，因基材传输效率的限制，整个薄膜沉积设备的生产效率仍有大幅度提高的空间。