[实用新型]一种ITO薄膜镀膜机有效
申请号: | 201420557736.4 | 申请日: | 2014-09-26 |
公开(公告)号: | CN204224695U | 公开(公告)日: | 2015-03-25 |
发明(设计)人: | 曹佐纯;曹菲 | 申请(专利权)人: | 曹佐纯 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35;C23C14/56 |
代理公司: | 深圳市君胜知识产权代理事务所 44268 | 代理人: | 王永文;刘文求 |
地址: | 518049 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 ito 薄膜 镀膜 | ||
1.一种ITO薄膜镀膜机,包括镀膜机壳体,其特征在于,还包括:
在所述镀膜机壳体内依次设置的用于放卷和预处理的第一真空室、用于镀二氧化硅薄膜的第二真空室及用于镀ITO薄膜及收卷的第三真空室;
所述镀膜机壳体内还设置贯穿所述第一真空室、所述第二真空室及所述第三真空室、并可自由抽出所述镀膜机壳体的墙板;
所述第一真空室与所述第二真空室之间固定设置有用于分隔真空室的第一固定隔离板;
所述第二真空室与所述第三真空室之间固定设置有用于分隔真空室的第二固定隔离板;
所述第二真空室还包括纵向设置的至少两个用于加热的第一纵向加热装置;
所述第三真空室还包括纵向设置的至少一个用于加热的第二纵向加热装置;
所述镀膜机壳体的近第一真空室侧的侧壁上固定设置有用于去除活性气体的钛泵。
2.根据权利要求1所述ITO薄膜镀膜机,其特征在于,所述第二真空室的近第一固定隔离板侧及近第二固定隔离板侧均设置一所述第一纵向加热装置。
3.根据权利要求2所述ITO薄膜镀膜机,其特征在于,所述第三真空室的近第二固定隔离板侧设置一所述第二纵向加热装置。
4.根据权利要求1所述ITO薄膜镀膜机,其特征在于,所述第一固定隔离板顶部上方设置一可移动的第一移动隔离板;所述第一移动隔离板与所述第一固定隔离板间还设有用于通过透明薄膜的第一间隙。
5.根据权利要求4所述ITO薄膜镀膜机,其特征在于,所述第二固定隔离板顶部上方设置一可移动的第二移动隔离板;所述第二移动隔离板与所述第二固定隔离板间还设有用于通过透明薄膜的第二间隙。
6.根据权利要求4所述ITO薄膜镀膜机,其特征在于,所述第一真空室还包括:
固定设置在所述墙板上的用于放卷透明薄膜的放卷装置;
固定设置在所述墙板上的、用于将透明薄膜从所述放卷装置传动至所述第一空隙的第一传动辊组;
固定设置在所述墙板上的,与所述第一纵向加热装置和与所述第二纵向加热装置的设置方向均垂直的、用于对透明薄膜加热的横向加热装置;
设置在所述第一真空室底部的用于去除水分的捕水器。
7.根据权利要求6所述ITO薄膜镀膜机,其特征在于,所述第二真空室还包括:
固定设置在所述墙板上的用于二氧化硅镀膜电极的二氧化硅镀膜鼓;
固定设置在所述墙板上、用于透明薄膜从所述第一间隙传动至所述二氧化硅镀膜鼓的第二传动辊组;
固定设置在所述墙板上、用于透明薄膜从所述二氧化硅镀膜鼓传动至所述第二间隙的第三传动辊组;
所述第二真空室内设置有环绕所述二氧化硅镀膜鼓、并用于二氧化硅镀膜电极的中频孪生硅靶。
8.根据权利要求7所述ITO薄膜镀膜机,其特征在于,所述第三真空室还包括:
固定设置在所述墙板上的用于氧化铟锡镀膜电极的氧化铟锡镀膜鼓;
固定设置在所述墙板上的用于收卷透明薄膜的收卷装置;
固定设置在所述墙板上、用于透明薄膜从所述第二间隙传动至所述氧化铟锡镀膜鼓的第四传动辊组;
固定设置在所述墙板上、用于透明薄膜从所述氧化铟锡镀膜鼓传动至所述收卷装置的第五传动辊组;
所述第三真空室内设置有环绕所述氧化铟锡镀膜鼓、并用于氧化铟锡镀膜电极的直流氧化铟锡靶。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于曹佐纯,未经曹佐纯许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420557736.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:机械搅拌式矿浆电解槽
- 下一篇:等离子喷涂靶材喷嘴
- 同类专利
- 专利分类