[实用新型]一种ITO薄膜镀膜机

说明书

技术领域

本实用新型涉及镀膜机技术领域，尤其涉及的是一种ITO薄膜镀膜机。

背景技术

ITO FILM（Indium Tin Oxide FILM，即氧化铟锡薄膜）是采用卷绕式磁控溅射真空镀膜机生产的。国外首次生产出普通的ITO FILM是在上世纪八十年代末，国产设备首次生产出普通的ITO FILM是在1996年。

普通ITO FILM因为同时具有透明、导电两大功能而被广泛用于无机场致发光片、电阻式触摸屏、太阳能电极和电磁屏蔽等领域。而普通ITO FILM相对于ITO GLASS（氧化铟锡玻璃）而言，具有轻、薄、不易破损、生产工序少、生产效率高、设备占地面积少、耗能少、耗水少等优势。

2007年苹果推出iPhone手机，当时的iPhone手机的电容式触摸屏用的是ITO GLASS，比较厚和重；而三星智能手机上的电容式触摸屏用的是高档ITO FILM，比较薄和轻。由于人们普遍喜欢轻薄手机，故较多的用户选择三星手机。从此高档ITO FILM需求量越来越多，2011年iphone也开始把高档ITO FILM用于智能手机的电容式触摸屏。

高档ITO FILM与普通ITO FILM的主要不同在于光电性能和表观质量要求更高，导致已有的国产设备生产不出高档ITO FILM。高档ITO FILM可用于电容式触摸屏，而普通ITO FILM则不能。现在，虽然国内有几家企业花高价进口国外设备有少量生产，但大陆高档ITO FILM绝大部分靠进口。

目前，国内存在一部分高档ITO FILM镀膜机，但其只有一个镀膜室，将二氧化硅和氧化铟锡两层膜放在同一个真空室内完成，此种方法会带来三个问题：一是由于镀制二氧化硅和ITO时所需的氧气和氩气不同，虽做了相应的隔离处理，但隔离效果有限，两个镀膜区相互间有一定影响，且随着时间增加，隔离效果也会变差，串气不可避免，结果导致工艺控制难、产品质量不稳；二是基膜在短时间内连续镀制二氧化硅和ITO两层膜，会导致基膜温度上升过快，结果导致基膜放气增加而影响产品；三是镀制二氧化硅也会使基膜被轰击出杂质气体，这些杂质气体会部分进入临近的ITO镀膜区，结果影响产品质量。

国产高档ITO FILM镀膜机除了存在上述三个问题，还因只有横向加热装置（水平放置），不具备横向方向的工艺调整，结果导致产品均匀性较差；镀ITO膜前的基膜处理的设计不理想，基膜处理的手段不够多，结果导致基膜处理不佳，影响产品质量、稳定性和产能；且传动系统不能移出真空室，结果导致不方便清洁、装膜和检修。

因此，现有技术还有待于改进和发展。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题在于，针对现有技术的上述缺陷，提供一种ITO薄膜镀膜机，旨在解决现有技术中由于未将二氧化硅镀膜室与氧化铟锡镀膜室分离，而导致ITO FILM镀膜机生产的产品质量不稳定、均匀性较差、且ITO FILM镀膜机不方便清洁、装膜和检修的缺陷。

本实用新型解决技术问题所采用的技术方案如下：

一种ITO薄膜镀膜机，包括镀膜机壳体，其中，还包括：

在所述镀膜机壳体内依次设置的用于放卷和预处理的第一真空室、用于镀二氧化硅薄膜的第二真空室及用于镀ITO薄膜及收卷的第三真空室；

所述镀膜机壳体内还设置贯穿所述第一真空室、所述第二真空室及所述第三真空室、并可自由抽出所述镀膜机壳体的墙板；

所述第一真空室与所述第二真空室之间固定设置有用于分隔真空室的第一固定隔离板；

所述第二真空室与所述第三真空室之间固定设置有用于分隔真空室的第二固定隔离板；

所述第二真空室还包括纵向设置的至少两个用于加热的第一纵向加热装置；

所述第三真空室还包括纵向设置的至少一个用于加热的第二纵向加热装置；

所述镀膜机壳体的近第一真空室侧的侧壁上固定设置有用于去除活性气体的钛泵。

所述ITO薄膜镀膜机，其中，所述第二真空室的近第一固定隔离板侧及近第二固定隔离板侧均设置一所述第一纵向加热装置。

所述ITO薄膜镀膜机，其中，所述第三真空室的近第二固定隔离板侧设置一所述第二纵向加热装置。

所述ITO薄膜镀膜机，其中，所述第一固定隔离板顶部上方设置一可移动的第一移动隔离板；所述第一移动隔离板与所述第一固定隔离板间还设有用于通过透明薄膜的第一间隙。