[实用新型]一种离子溅射仪控制系统

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体制造设备领域，更具体地说，涉及一种离子溅射仪控制系统。

背景技术

离子束溅射是在磁控溅射技术之后发展起来的一项溅射技术，它的优点是溅射过程可以控制，离子能量和入射角度都可以调节和控制，并且基片不受离子从靶面反射而引起的辐射损伤。利用高能离子流溅射出的膜料离子能量高，有利于薄膜结构的生成；离子源可控性强，因此用离子束溅射制备薄膜具有良好附着性、低的散射良好稳定性和重复性。保证膜的致密、均匀，易于控制。近年，离子束溅射沉积技术更加注重研究具有准确化学配比的多元化合物薄膜，沉积多成分原子通量和沉积标准成分含量的化合物薄膜。此外，离子源参数的可调控性可控制膜层应力问题，对于CuInSe₂(CIS)太阳能电池这种多层结构的电池能够较方便地处理膜层应力问题；随着大口径离子源研究得深入和离子束溅射沉积技术的完善，采用离子束溅射沉积CIS薄膜技术将有设备简单、无毒性和可以大面积生产的特点；因此，离子束溅射沉积技术具有制备高素质CIS薄膜的条件。

4400型溅射仪是美国早期生产的单机溅射机台，此类机台在国内仍有不少厂家在使用。原机台的控制部分仅将部分手动操作功能用逻辑电路实现互锁控制，操作繁琐，容易产生误操作和设备故障，影响产品的稳定，稳定性差。

实用新型内容

1.要解决的技术问题

针对现有技术中存在的手动操作繁琐，容易出现失误，且易造成质量不稳定的问题，本实用新型提供了一种离子溅射仪控制系统。它可以实现机台的一键操作，过程全部自动化，操作人员只要装片和取片，操作简单，准确性好，生产产品质量稳定。

2.技术方案

本实用新型的目的通过以下技术方案实现：

一种离子溅射仪控制系统，包括RF电源、直流电源，、PLC控制器、真空仪表、传感器、触摸屏和执行输出，其中，所述的传感器和PLC控制器连接，传感器采集的信号传输到PLC控制器；PLC控制器和执行输出连接，PLC控制器处理后的信号传输到执行输出；所述的PLC控制器还分别与真空仪表、RF电源、触摸屏、直流电源连接，所述的PLC控制器分别与真空仪表、RF电源、触摸屏、直流电源之间进行双向信号传输，所述的传感器设置于离子溅射仪机台内。

更进一步的，所述的PLC控制器包含有88个数字量输入点，64个数字量输出点，4个输入模拟量接口和1个输出模拟量接口。

更进一步的，所述的PLC控制器配置有I/O扩展模块。

更进一步的，所述的执行输出包括离子溅射仪的机械泵、装载腔、溅射腔和运输小车。

更进一步的，所述的触摸屏包括有显示区域，显示区域划分为工艺参数显示区、运行状态参数显示区和故障报警信息显示区。

3.有益效果

相比于现有技术，本实用新型的优点在于：

(1)本实用新型结构简单，各部件模块化分布，避免了人为误操作造成的设备故障，在全自动工作状态下，操作简单，按启动按钮即可，提高生产效率；

(2)全自动化操作，相对于人工操作，自动化操作避免了不同人操作不一样的情况，自动化操作避免不同人操作不一样的情况，提高了生产的可靠性和产品的稳定性；

(3)本实用新型采用PLC结构数量多，88个数字量输入点，64个数字量输出点，4个输入模拟量接口和1个输出模拟量接口，可对于多个同事情况下的生产进行处理，处理效率高；

(4)PLC控制器配置有I/O扩展模块，可以对于后续的操作添加了接口，随时可以进行加入新的功能和方法，兼容性强；

(5)使用PLC控制器将执行输出各个部分统一连接，可对机台进行全面控制，操作控制全部自动化进行，降低设备故障率；

(6)使用触摸屏，可以触摸对产品进行操作，方便快捷；

(7)触摸屏显示区域内容全面，显示区域划分为有工艺参数显示区、运行状态参数显示区、故障报警信息显示区，更好的对产品操作进行监控，并及时可以退突发情况进行处理，提高了产品的稳定性。

附图说明

图1为本实用新型的各模块连接示意图；

图中标号说明：1、PLC控制器；2、真空仪表；3、传感器；4、RF电源；5、触摸屏；6、直流电源；7、执行输出。

具体实施方式

下面结合说明书附图和具体的实施例，对本实用新型作详细描述。

实施例1