[实用新型]用于硅片切割的上下齐对焦显微镜有效

专利信息
申请号: 201420607840.X 申请日: 2014-10-20
公开(公告)号: CN204116698U 公开(公告)日: 2015-01-21
发明(设计)人: 王新印 申请(专利权)人: 无锡世迈科技有限公司
主分类号: G02B21/00 分类号: G02B21/00;B28D7/00
代理公司: 无锡市汇诚永信专利代理事务所(普通合伙) 32260 代理人: 张欢勇
地址: 214028 江苏省无锡市无锡国家高新技术产业*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 用于 硅片 切割 上下 对焦 显微镜
【权利要求书】:

1.一种用于硅片切割的上下齐对焦显微镜,其特征在于:包括透明且设有对焦基准线的切割台(1)、第一显微镜(2)和第二显微镜(3),所述的第一显微镜(2)设在切割台(1)上方,所述第二显微镜(3)设在切割台(1)下方,所述第一显微镜(2)镜头和第二显微镜(3)镜头相对且与对焦基准线同轴线。

2.根据权利要求1所述的用于硅片切割的上下齐对焦显微镜,其特征在于:所述切割台(1)包括台架(1.1)和由透明材料制成且表面设有对焦基准线的台板(1.2),所述台板(1.2)与台架(1.1)为可拆式连接。

3.根据权利要求1所述的用于硅片切割的上下齐对焦显微镜,其特征在于:还包括显示器(4),所述第一显微镜(2)和第二显微镜(3)均与显示器(4)相连接。

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