[实用新型]真空离子镀膜设备

权利要求书

1.一种真空离子镀膜设备，包括镀膜炉（1），设置在镀膜炉内的镀膜平台（2），其特征在于：所述镀膜炉（1）的外围设置有保温过渡炉（3），所述保温过渡炉（3）外设置有外罩体（4），所述外罩体（4）的顶部设置有由动力装置启闭的第一开合顶窗（5），保温过渡炉（3）的顶部设置有由动力装置启闭的第二开合顶窗（6），镀膜炉（1）的顶部设置有由动力装置启闭的第三开合顶窗（7），所述外罩体（4）外设置有能够使镀膜炉形成真空的真空泵（8），所述镀膜炉（1）内设置有能够发射等离子体的离子源（9），待镀膜的玻璃片能够从第一开合顶窗（5）、第二开合顶窗（6）、第三开合顶窗（7）送入到镀膜平台上，所述镀膜炉（1）内还设置有位于镀膜平台四周的膜料（10），所述离子源（9）能够膜料成为蒸汽镀在玻璃片上。

2.按照权利要求1所述的真空离子镀膜设备，其特征在于：所述离子源与离子源电源连接。

3.按照权利要求1所述的真空离子镀膜设备，其特征在于：所述第一开合顶窗（5）、第二开合顶窗（6）、第三开合顶窗（7）均由各自的气缸驱动。