[实用新型]真空离子镀膜设备

说明书

技术领域

    本实用新型涉及一种镀膜装置，具体地说是一种真空离子镀膜设备。

背景技术

光学薄膜，就是在镜片上镶上一层或多层非常薄的特殊材料，使镜片能达到某种特定的光学效果。传统上镀膜的方式很多，有真空蒸镀方式，将蒸镀材料在真空蒸镀机内置于电阻丝或片上，在高真空的情况下，加热使材料成为蒸气，直接镀于镜片上；电子枪式，其方法是以高压电子束直接打击材料，还有溅射方式，是通过高压使惰性气体离子化，打击材料使之直接溅射至镜片，由此可见，传统的镀膜方式的确多种多样，但是传统的这些镀膜方式由于镀膜方法不科学或者镀膜装置结构设置不合理，设备成本高、镀膜效率低，所作薄膜的附着力不好，使其镀膜质量差。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种结构简单、设备成本低，镀膜质量好的真空离子镀膜设备。

为了解决上述技术问题，本实用新型的真空离子镀膜设备，包括镀膜炉，设置在镀膜炉内的镀膜平台，镀膜炉的外围设置有保温过渡炉，保温过渡炉外设置有外罩体，外罩体的顶部设置有由动力装置启闭的第一开合顶窗，保温过渡炉的顶部设置有由动力装置启闭的第二开合顶窗，镀膜炉的顶部设置有由动力装置启闭的第三开合顶窗，外罩体外设置有能够使镀膜炉形成真空的真空泵，镀膜炉内设置有能够发射等离子体的离子源，待镀膜的玻璃片能够从第一开合顶窗、第二开合顶窗、第三开合顶窗送入到镀膜平台上，镀膜炉内还设置有位于镀膜平台四周的膜料，离子源能够膜料成为蒸汽镀在玻璃片上。

所述离子源与离子源电源连接。

所述第一开合顶窗、第二开合顶窗、第三开合顶窗均由各自的气缸驱动。

本实用新型的优点在于：一方面，通过离子源发射等离子体加热膜料，使膜料成为膜料蒸汽，均匀镀在玻璃片上，另外一方面，膜料位于镀膜平台四周加热后蒸发效果好，有利于增强膜层强度，再一方面设置的真空泵，可以抽真空，使其镀膜平整度、均匀度大大提高，特别是设置的三层保温结构，密封彻底，保温效果好，进一步增强镀膜强度，还可以在镀完膜后出炉过程中使其具有过渡作用，有利于提高镀膜强度和镀膜质量。

附图说明

    图1为本实用新型真空离子镀膜设备的结构示意图。

具体实施方式

下面结合具体实施例，对本实用新型的真空离子镀膜设备作详尽说明。

如图1所示，本实用新型的真空离子镀膜设备，包括镀膜炉1，设置在镀膜炉内的镀膜平台2，镀膜炉1的外围设置有保温过渡炉3，保温过渡炉3外设置有外罩体4，外罩体4的顶部设置有由动力装置启闭的第一开合顶窗5，保温过渡炉3的顶部设置有由动力装置启闭的第二开合顶窗6，镀膜炉1的顶部设置有由动力装置启闭的第三开合顶窗7，所述外罩体4外设置有能够使镀膜炉形成真空的真空泵8，镀膜炉1内设置有能够发射等离子体的离子源9，待镀膜的玻璃片能够从第一开合顶窗5、第二开合顶窗6、第三开合顶窗7送入到镀膜平台上，所述镀膜炉1内还设置有位于镀膜平台四周的膜料10，离子源9能够膜料成为蒸汽镀在玻璃片上，离子源与离子源电源连接，第一开合顶窗5、第二开合顶窗6、第三开合顶窗7均由各自的气缸驱动。