[实用新型]一种投射式双层多点触摸屏

说明书

技术领域

本实用新型涉及触摸屏技术领域，具体涉及一种投射式双层多点触摸屏。

背景技术

在触摸显示屏技术领域，全贴合触摸显示屏得到了快速发展，成为市场上最具市场竞争力的触摸显示屏之一。随着科技的快速发展，人们对触摸屏产品的视觉感受要求越来越高。目前，为了降低触摸屏电极线的电阻需要加厚ITO膜(铟锡氧化物半导体透明导电膜)，而ITO膜的厚度增加其颜色也随之改变，可见光对ITO膜的穿透率随ITO膜颜色的改变而改变，进而出现随着ITO膜的增厚，蚀刻后的图案愈加清晰，使触摸屏出现色差，影响触摸屏的外观及消费者的视觉效果的局限性。

实用新型内容

本实用新型的目的是克服现有技术的不足和缺陷，提供一种ITO图案色差不明显、外观视觉效果好的投射式双层多点触摸屏善。

本实用新型的目的是通过以下技术方案来实现的：

一种投射式双层多点触摸屏，包括由上往下依次设置的第一PET薄膜层、第一消隐层、第一ITO薄膜层、OCA粘合层、第二ITO薄膜层、第二消隐层、第二PET薄膜层、第一折射层、第二折射层，其中第一消隐层包括由上往下依次设置的ZrO₂薄膜层、SiO2薄膜层、SiO1薄膜层，第二消隐层包括由上往下依次设置的SiO1薄膜层、SiO2薄膜层、ZrO2薄膜层，第一折射层的折射率低于第二折射层的折射率。

具体地，所述第一折射层为二氧化钛折射层或五氧化二铌折射层。

具体地，所述二氧化钛折射层的厚度为10nm。

具体地，所述五氧化二铌折射层的厚度为11nm。

具体地，所述第二折射层为二氧化硅折射层，其厚度为45nm。

具体地，所述ZrO2薄膜层的厚度为10nm。

具体地，所述SiO2薄膜层的厚度为10nm。

具体地，所述SiO1薄膜层的厚度为10nm。

具体地，所述第一ITO薄膜层和第二ITO薄膜层的ITO线路图案均为：相邻两条电极线之间设置有方形ITO虚拟块。

本实用新型相比现有技术包括以下优点及有益效果：

(1)本实用新型通过在第一ITO薄膜层上方设置第一消隐层、在第二ITO薄膜层下方设置第二消隐层，对ITO线路图案进行消隐，同时在ITO薄膜层下依次设置第一折射层和第二折射层大大消减ITO薄膜层的颜色，减淡ITO线路图案，从而提高触摸屏的视觉效果。

(2)本实用新型还通过在第一ITO薄膜层的相邻两条电极线之间设置方形ITO虚拟块，从而减小触摸屏外观的色差，进一步提高触摸屏的视觉效果。

附图说明

图1为本实用新型投射式双层多点触摸屏的结构示意图；

图2为第一消隐层的结构示意图；

图3为第二消隐层的结构示意图；

图4为第一ITO薄膜层的ITO线路示意图；

图5为图4中A部分放大示意图。

其中，第一PET薄膜层1、第一消隐层2、第一ITO薄膜层3、OCA粘合层4、第二ITO薄膜层5、第二消隐层6、第二PET薄膜层7、第一折射层8、第二折射层9、ZrO₂薄膜层21、SiO₂薄膜层22、SiO₁薄膜层23、SiO₁薄膜层31、SiO₂薄膜层32、ZrO₂薄膜层33、方形ITO虚拟块10。

具体实施方式

下面结合实施例及附图对本实用新型作进一步详细的描述，但本实用新型的实施方式不限于此。

实施例