[实用新型]一种用于流体涂布的狭缝涂布头腔体结构

权利要求书

1.一种用于流体涂布的狭缝涂布头腔体结构，包括上游模（12）、下游模（11）、以及夹在上游模（12）与下游模（11）之间的垫片（13），上游模（12）、下游模（11）和垫片（13）装配形成了由流体进口（321）、分配主腔（322）、阻流流道（323）、稳压副腔（324）、扩展流道（325）、及流体出口（326）组成的腔体；其特征在于：

分配主腔（322）设置为V型结构，阻流流道（323）的长度H3由模头的中心向模头端部递减。

2.根据权利要求1所述的狭缝涂布头腔体结构，其特征在于：分配主腔（322）设置为截面V型结构。

3.根据权利要求2所述的狭缝涂布头腔体结构，其特征在于：分配主腔（322）设置为截面半圆柱V型结构。

4.根据权利要求1所述的狭缝涂布头腔体结构，其特征在于：稳压副腔（324）的壁面（328）设置为斜面。

5.根据权利要求4所述的狭缝涂布头腔体结构，其特征在于：稳压副腔（324）的截面设置为半水滴结构。

6.根据权利要求2所述的狭缝涂布头腔体结构，其特征在于：壁面（328）的斜面角度为θ2，其中，θ2的取值范围：30°≤θ2≤50°。

7.根据权利要求2所述的狭缝涂布头腔体结构，其特征在于：V型分配主腔(322)的V型角度为θ1，其中，θ1的取值范围：120°≤θ1≤180°。

8.根据权利要求1-7任一所述的狭缝涂布头腔体结构，其特征在于：扩展流道的长度大于阻流流道的长度。

9.根据根据权利要求8所述的狭缝涂布头腔体结构，其特征在于：上游模（12）、下游模（11）和垫片（13）采用机械装配形成腔体。