[实用新型]一种放射治疗用光栅装置

权利要求书

1.一种放射治疗用光栅装置，其特征在于，包括：上层光栅组件和下层光栅组件两层光栅叶片，所述上层光栅组件与下层光栅组件均包括水平对向设置的两组叶片，所述两组叶片均分别由驱动元件驱动做水平往复运动。

2.根据权利要求1所述的放射治疗用光栅装置，其特征在于，所述上层光栅组件中的叶片与下层光栅组件的叶片平行设置，所述下层光栅组件的叶片之间的缝隙均位于上层光栅组件的对应叶片的底面的下方，即为上层光栅叶片的底面所遮蔽。

3.根据权利要求1到2任一所述的放射治疗用光栅装置，其特征在于，所述上层光栅组件的叶片的右侧边沿与下层光栅组件的叶片的左侧边沿对齐。

4.根据权利要求2所述的放射治疗用光栅装置，其特征在于，所述上层光栅组件的叶片的底面中心线与下层光栅组件的叶片之间的缝隙中心线对齐。

5.根据权利要求2所述的放射治疗用光栅装置，其特征在于，所述放射治疗用光栅装置还设有叶片前端位置控制装置，其控制上层叶片组件的两组叶片前端即自由端相互接触后形成的缝隙与下层叶片组件的两组叶片前端即自由端相互接触后形成的缝隙错位，即所述下层光栅组件的叶片之间的缝隙和叶片前端接触后形成的缝隙均位于上层光栅组件的对应叶片的底面的下方，即为上层光栅叶片的底面所遮蔽。

6.根据权利要求2所述的放射治疗用光栅装置，其特征在于，所述上层光栅组件的叶片由中间叶片开始到右侧叶片的右侧边线，从与下层光栅组件的叶片的左侧边沿对齐逐渐向叶片中心线方向移动，即上层叶片覆盖下层叶片的面积逐渐加大，左侧叶片镜像设置。

7.根据权利要求5所述的放射治疗用光栅装置，其特征在于，所述叶片前端位置控制装置包括：

叶片前端距离计数器，用于实时监控下层光栅组件对应叶片前端的距离，当数据为零时，则表明该对叶片前端相互碰触闭合；

中央控制器，接收叶片前端距离计数器传来的数据，当某组叶片前端距离为零时，则向上层光栅组件中上方对应的位置的一对叶片发出指令，该对叶片执行以下命令：

第一，该对叶片前端碰触闭合并保持；

第二，调整两个叶片向前移动的距离占比，使得两个叶片前端的碰触后形成的缝隙与下层叶片间前端缝隙错位，即所述下层光栅组件的叶片之间的缝隙和叶片前端接触后形成的缝隙均位于上层光栅组件的对应叶片的底面的下方，即为上层光栅叶片的底面所遮蔽。