[实用新型]酸性蚀刻液再生系统

权利要求书

1.一种酸性蚀刻液再生系统，其特征在于：包括蚀刻槽、与所述蚀刻槽连接的采样检测装置、多个添加装置和控制装置，多个所述添加装置与所述蚀刻槽连接，所述采样检测装置和多个所述添加装置分别与所述控制装置电连接，所述采样检测装置包括温度模块，所述温度模块与所述控制装置电连接。

2.根据权利要求1所述的酸性蚀刻液再生系统，其特征在于：所述采样检测装置还包括间隔设置的比重检测器、电导率检测器和电位检测器，并均与所述控制装置电连接。

3.根据权利要求2所述的酸性蚀刻液再生系统，其特征在于：所述比重检测器、所述电导率检测器和所述电位检测器均包括检测探头和与所述检测探头连接的控制器，所述控制器与所述控制装置电连接。

4.根据权利要求2所述的酸性蚀刻液再生系统，其特征在于：所述电导率检测器和所述电位检测器分别包括依次连接的检测探头、控制器和分析单元，所述分析单元与所述控制装置电连接。

5.根据权利要求3或4所述的酸性蚀刻液再生系统，其特征在于：所述控制器为可编程逻辑控制器。

6.根据权利要求1所述的酸性蚀刻液再生系统，其特征在于：多个所述添加装置包括间隔设置的水添加装置、盐酸添加装置和氧化剂添加装置。

7.根据权利要求6所述的酸性蚀刻液再生系统，其特征在于：所述氧化剂添加装置中的氧化剂为过氧化氢。

8.根据权利要求1所述的酸性蚀刻液再生系统，其特征在于：所述控制装置包括控制单元和人机交互界面，二者电连接。

9.根据权利要求8所述的酸性蚀刻液再生系统，其特征在于：所述控制单元为可编程逻辑控制器。

10.根据权利要求8所述的酸性蚀刻液再生系统，其特征在于：所述人机交互界面为触摸屏。