[实用新型]一种蒸发台的防绕射装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种蒸发台，具体涉及一种蒸发台的防绕射装置。

背景技术

我公司蒸发台主要用于对硅片表面蒸镀13μ～15μ的铝层，在使用过程中发现蒸发完毕后硅片背面没有被工件盘遮挡的部分也被蒸镀上一层佷薄的铝，这种情况我们称为绕射，绕射会使硅片背面蒸铝时粘附不牢，造成铝层脱落，导致产品报废；或者使下一道工序没有办法将硅片背面那一层很薄的铝去掉，造成产品的返工。厂家前来我厂调试和解决蒸发台绕射问题的工作人员介绍，该厂和国内生产该类型的蒸发台均有此类问题出现，目前尚未找到从根本上解决的途径。

而目前国内的解决方案有两种，一种是在硅片背面加一片同尺寸的遮挡片，这样就加大了操作工的工作量和增加工件盘的重量加大工件盘旋转电机的负荷。另一种是将装夹硅片的工件盘全密封，这样就加大了操作工的工作难度，而且在装夹过程中容易产生碎片影响成品率。

实用新型内容

为解决上述技术问题，本实用新型提供了一种蒸发台的防绕射装置。

本实用新型通过以下技术方案得以实现。

本实用新型提供的一种蒸发台的防绕射装置，包括蒸发台组件、隔挡圈、传动轴、顶罩、支架、钟罩和行星工件盘；所述蒸发台组件设置于钟罩内，所述钟罩内还设置有顶罩，所述顶罩的下方设置有支架，所述支架通过传动轴活动安装在钟罩上，所述支架上安装有行星工件盘，所述行星工件盘的下方设置有传动轴，所述隔挡圈固定在钟罩的内壁上。

所述隔挡圈的内径小于行星工件盘下端所在圆周的直径。

所述隔挡圈与行星工件盘下端的距离为0.5cm～1cm。

本实用新型的有益效果在于：通过在钟罩内设置隔挡圈，将隔挡圈置于行星工件盘的下方，并且隔挡圈的内径设置成略小于星工件盘下端所在圆周的直径，可以有效防止铝蒸汽碰撞到钟罩的内壁后散射到工件盘背面，解决了蒸发台铝蒸汽的绕射问题，降低操作工的工作难度。

附图说明

图1是本实用新型的结构示意图；

图中：1-蒸发台组件，11-坩埚，12-电子枪，13-电子束，14-铝，15-磁偏转，16-铝蒸汽，2-隔挡圈，3-传动轴，4-顶罩，5-支架，6-钟罩，7-行星工件盘。

具体实施方式

下面进一步描述本实用新型的技术方案，但要求保护的范围并不局限于所述。

如图1所示的一种蒸发台的防绕射装置，包括蒸发台组件1、隔挡圈2、传动轴3、顶罩4、支架5、钟罩6和行星工件盘7；所述蒸发台组件1设置于钟罩6内，所述钟罩6内还设置有顶罩4，所述顶罩4的下方设置有支架5，所述支架5通过传动轴3活动安装在钟罩6上，所述支架5上安装有行星工件盘7，所述行星工件盘7的下方设置有传动轴3，所述隔挡圈2固定在钟罩6的内壁上。根据其铝源蒸发时按直线方向飞行，铝蒸汽与器壁的碰撞会产生反射情况，并通过加设隔挡圈2防止铝蒸汽碰撞到钟罩的内壁后散射到工件盘背面。

所述隔挡圈2的内径小于行星工件盘7下端所在圆周的直径所述隔挡圈2与行星工件盘7下端的距离为0.5cm～1cm。

将隔挡圈的内径设置成略小于星工件盘下端所在圆周的直径，可以有效防止铝蒸汽碰撞到钟罩的内壁后散射到工件盘背面，解决了蒸发台铝蒸汽的绕射问题，降低操作工的工作难度。