[实用新型]一种透明导电薄膜磁控溅射装置

权利要求书

1.一种透明导电薄膜磁控溅射装置，其特征是：所述的透明导电薄膜磁控溅射装置包括观察窗、盖、基片、溅射枪、高压电极、加热丝、壳体、第一进气管、第二进气管、第一阀门、第二阀门、排气管、第三阀门、分子筛、第四阀门、导气管、第五阀门、真空规、缓冲罐、真空泵、底座、连接管、腔体、蒸发源；壳体的顶端设置了盖，壳体内部形成了腔体，分子筛将腔体隔成两个半腔体，腔体的下部通过安装有真空规的连接管与缓冲罐进行连接，腔体的下半腔体安装有真空规，腔体的底部设置了底座，腔体的上半腔体设置了溅射枪、高压电极、加热丝、蒸发源，腔体上半腔体的壳体设置了第一进气管、第二进气管和排气管，壳体还设置了观察窗，腔体的上半腔体还通过导气管经第四阀门与缓冲罐连接，真空泵通过导气管经第五阀门与缓冲罐连接，第一进气管、第二进气管和排气管上分别设置有第一阀门、第二阀门和第三阀门。