[实用新型]片式集成电路材料退镀单元有效

专利信息
申请号: 201420872312.7 申请日: 2014-12-31
公开(公告)号: CN204491023U 公开(公告)日: 2015-07-22
发明(设计)人: 苏骞;刘全胜;柳兴森;乌磊;孟敏 申请(专利权)人: 深圳市奥美特科技有限公司
主分类号: C25F5/00 分类号: C25F5/00;C25D17/00
代理公司: 深圳市瑞方达知识产权事务所(普通合伙) 44314 代理人: 张约宗
地址: 518000 广东省深圳*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 集成电路 材料 单元
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及电镀生产设备领域,尤其涉及一种片式集成电路材料退镀单元。

背景技术

集成电路材料,储如集成电路引线框架等材料在电镀过程通常包括镀银工序,在镀银工序之后通常包含退银工序,以去除制件表面多镀部分。当前的退镀工艺中,将片料放置在片式集成电路材料退镀单元中,使片料逐一地传送经过导电的退镀液中以去除片料表面多镀部分。现有的片式集成电路材料退镀单元一次只能传送一块片料以进行一次退镀,传送效率低而且退镀效果不明显。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题在于,针对现有技术的缺陷,提供一种新型的片式集成电路材料退镀单元。

本实用新型解决其技术问题所采用的技术方案是:一种片式集成电路材料退镀单元,其特征在于,包括用于存放退镀液的退镀槽、设置在所述退镀槽上的至少一个退镀通道、以及设置所述退镀通道上的至少一个退镀机构;

所述退镀机构包括在所述退镀通道长度方向上间隔设置的若干个传送辊组件、用于将片料与电源阳极电连接的第一导电件和用于将退镀液与电源阴极电连接的第二导电件;每一所述传送辊组件包括可反向转动以传送片料的上传送辊和下传送辊。

优选地,所述上传送辊包括上传送轴以及套设在所述上传送轴的用于与所述片料抵接的导电弹簧,所述导电弹簧与所述第一导电件电连接。

优选地,所述上传送辊还包括间隔固定在所述上传送轴的两个端盖,所述导电弹簧的末端分别与所述两个端盖相连。

优选地,所述至少两个端盖中至少一个为导电端盖,所述第一导电件与所述导电端盖相连。

优选地,所述导电弹簧的内径大于所述上传送轴的外径。

优选地,所述退镀通道包括至少两个,位于至少两个退镀通道对应位置的所述上传送轴同轴,位于至少两个退镀通道对应位置的至少两个所述下传送辊共用下传送轴。

优选地,还包括用于驱动所述传送辊组件工作的驱动组件,所述驱动组件包括套设在所述上传送轴上的第一齿轮、套设在所述下传送轴上的与所述第一齿轮啮合的第二齿轮、以及用于驱动所述第二齿轮转动的第二驱动单元。

优选地,还包括间隔设置在两个所述下传送辊之间并与所述下传送辊平行的第一传送辊,位于至少两个退镀通道对应位置的至少两个第一传送辊共用第一传送轴。

优选地,所述至少两排通液孔间隔设置在所述下传送辊与所述第一传送辊之间。

优选地,所述退镀通道还包括设置在所述退镀槽上方的挡板和第一驱动单元;所述挡板沿长度方向上间隔设置至少两排通液孔,所述第一驱动单元用于驱使所述退镀液从所述通液孔流出并与片料接触。

本实用新型与现有技术相比具有如下优点:本实用新型所提供的片式集成电路材料退镀单元,设置至少一个退镀通道,可同时传送至少一块片料并对其进行退镀,片料传送效率高;并且第一退镀通道上设有至少一个退镀机构,可对同一片料进行连续退镀,以保证退镀质量,满足退镀需求。

附图说明

下面将结合附图及实施例对本实用新型作进一步说明,附图中:

图1是本实用新型一实施例中片式集成电路材料退镀单元的结构示意图。

图2是图1中退镀机构的放大图。

图3是图1中A-A线的剖面图。

图中:1、退镀槽;2、退镀机构;21、传送辊组件;211、上传送辊;2111、导电弹簧;2112、端盖;212、下传送辊;213、上传送轴;214、下传送轴;215、第一传送辊;216、第一传送轴;221、第一导电件;222、第二导电件;23、驱动组件;231、第一齿轮;232、第二齿轮;233、第二驱动单元;3、退镀通道;31、挡板;311、通液孔。

具体实施方式

为了对本实用新型的技术特征、目的和效果有更加清楚的理解,现对照附图详细说明本实用新型的具体实施方式。

图1-图3示出本实施例中的片式集成电路材料退镀单元。该片式集成电路材料退镀单元为片式集成电路材料电镀设备中的一部分,应用于集成电路材料镀银工序之后进行的退银工序。该片式集成电路材料退镀单元包括用于存放退镀液的退镀槽1、设置在退镀槽1上的至少一个退镀通道3、以及设置退镀通道3上的至少一个退镀机构2。可以理解地,退镀通道3设置至少一个,用于同时传送至少一个片料,片料传送效率高;而且每一退镀通道3上设有至少一个退镀机构2,可对同一片料进行连续退镀,以保证退镀质量,满足退镀需求。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市奥美特科技有限公司,未经深圳市奥美特科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201420872312.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top