[发明专利]基膜、包括该基膜的层压结构以及显示装置

权利要求书

1.一种基膜，其包含：具有基于环烯烃的重复单元的聚合物；和包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物；

其中，在所述基于环烯烃的重复单元中，外型异构体的含量为50mol％以上，并且

在所述基膜上形成透明的基于金属氧化物的导电膜，

其中，所述基膜的玻璃化转变温度为250℃以上，并且在400至800nm下透光率为90％以上。

2.根据权利要求1所述的基膜，其中，所述具有基于环烯烃的重复单元的聚合物为通过由以下化学式2表示的基于降冰片烯的单体中的一种单体加成聚合所制备的均聚物，或者通过由化学式2表示的两种或更多种单体加成聚合所制备的共聚物：

[化学式2]

在化学式2中，

q为0至4的整数；

R1至R4独立地为极性官能团或非极性官能团，或者

选自R1与R2，以及R3与R4的至少一种组合可以彼此连接以形成C1至C10烷叉基，或者R1或R2可以与R3和R4中的一个连接以形成C4-C12饱和或不饱和脂族环或C6-C24芳族环中。

3.根据权利要求1所述的基膜，其中，在所述基于环烯烃的重复单元中外型异构体的含量为50至100mol％。

4.根据权利要求1所述的基膜，

其中，所述具有基于环烯烃的重复单元的聚合物具有10,000至1,000,000的重均分子量。

5.根据权利要求1所述的基膜，

其中，所述包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物包含1至50wt％的所述基于苯乙烯的重复单元。

6.根据权利要求1所述的基膜，

其中，所述包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物具有500至1,000,000的重均分子量。

7.根据权利要求1所述的基膜，

其中，所述具有基于环烯烃的重复单元的聚合物和所述包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物以99:1至50:50的重量比进行混合。

8.根据权利要求2所述的基膜，其中，所述非极性官能团选自：氢；卤素；取代或未取代的C1-20直链或支链烷基；取代或未取代的C2-20直链或支链烯基；取代或未取代的C2-20直链或支链炔基；取代或未取代的C3-12环烷基；C6-40芳基；以及取代或未取代的C7-15芳烷基。