[发明专利]基膜、包括该基膜的层压结构以及显示装置

说明书

技术领域

本发明涉及一种基膜、包括该基膜的层压结构和显示装置，更具体地，涉及一种显示出高玻璃化转变温度而因此具有优异的耐热性并具有高透光率的基膜，以及涉及一种包括该基膜的层压结构和显示装置。

本申请要求于2013年9月30日向韩国知识产权局(KIPO)提交的第10-2013-0116560号韩国专利申请以及于2014年9月26日向KIPO提交的第10-2014-0129369号韩国专利申请的优先权，上述申请的全部内容在此通过引用并入本申请。

背景技术

一般而言，触摸面板，是安装在显示装置的表面上并将物理接触(如用户的手指、触摸笔等)转换成电信号的装置，以及其被应用到液晶显示器、等离子体显示面板、EL(电致发光)装置等。

这些触摸面板商业化的有：利用红外线的光学型；透明电极型，其利用通过在聚合物基膜上涂布金属氧化物形成的透明导电膜的接触点；检测电容变化的电容型；位置传感型，其将力量分布的位置传感到压力传感器；等等。

在各种类型的触摸面板中，透明电极型需要透明的基于金属氧化物的导电膜。由于通过将氧化铟锡(ITO)涂布到聚合物基膜上形成的ITO膜是透明的并具有优异的导电性，其已经得到了广泛使用。

特别是，基于金属氧化物的导电膜可以在聚合物基膜或玻璃基板上通过真空沉积或溅射金属氧化物来制备。因此，由于必须进行在高温下进行的如真空沉积法、溅射法等处理，耐热性成为所述基膜的基本特征之一。

在一般情况下，耐热性可以由玻璃化转变温度进行评价，并且为了获得在其上形成光学优异的透明的基于金属氧化物的导电膜的基膜，需要在等于或大于约150℃的温度下、优选等于或大于约200℃的温度下进行溅射，从而对于基膜而言需要比所述溅射温度更高的玻璃化转变温度和优异的机械物理性能。

此外，为了将所述基膜进行处理并应用于显示装置等，除了上述的高玻璃化转变温度之外，在可见光区域的透明度也是重要特征，并且需要90％以上的透光率。

然而，在通常用作基膜的聚合物膜(例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)、聚碳酸酯(PC)等)具有120℃以下的低玻璃化转变温度，从而产生在形成透明的基于金属氧化物的导电膜的过程中变形的问题。此外，由于聚酰亚胺(PI)膜的优异的耐热性以及400℃以上的高的玻璃化转变温度而在最近被大量研究，但是这种膜是不透明的，并且显示橙色，因而不适合用于显示领域中。

此外，由于聚合物膜(例如聚对苯二甲酸乙二醇酯(PET)等)具有高相位差，可用作外部基膜；然而，其不能用作内部基膜。

因此，需要开发一种具有高玻璃化转变温度、耐热性等以及低相位差性能且透明的基膜，包括该基膜的层压结构以及包括该层压结构的显示装置。

发明内容

【技术问题】

本发明的一个目的是提供一种显示出高玻璃化转变温度从而具有优异的耐热性并具有高透光率的基膜。

另外，本发明另一个目的是提供一种包括所述基膜的层压结构。

另外，本发明又一个目的是提供一种包括所述层压结构的显示装置。

【技术方案】

本发明提供一种基膜，其包含：具有基于环烯烃的重复单元的聚合物；以及包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物；其中，在所述基于环烯烃的重复单元中，外型异构体的含量为50mol％以上，并且在所述基膜上形成透明的基于金属氧化物的导电膜。

本发明还提供一种层压结构，其包括所述基膜，以及在所述基膜上形成的透明的基于金属氧化物的导电膜。

本发明还提供一种显示装置，其包括所述层压结构。

下文中，将对根据本发明具体的实施方式的基膜、包括所述基膜的层压结构以及显示装置进行更加详细地说明。

根据本发明的一个实施方式，提供一种基膜，其包含：具有基于环烯烃的重复单元的聚合物；以及包含基于苯乙烯的重复单元和基于马来酰亚胺的重复单元的共聚物；其中，在所述基于环烯烃的重复单元中，外型异构体的含量为50mol％以上，并且在所述基膜上形成透明的基于金属氧化物的导电膜。

在所述基膜中，基于环烯烃的重复单元可以由以下化学式1来表示，并且所述具有基于环烯烃的重复单元的聚合物可以包含通过由以下化学式2表示的基于降冰片烯的单体中的一种单体加成聚合所制备的均聚物，或者通过由以下化学式2表示的单体中的两种或更多种单体加成聚合所制备的共聚物：

[化学式1]