[发明专利]无规结构GIC的制造方法、薄片化石墨分散液的制造方法、薄片化石墨分散液及薄片化石墨有效

专利信息
申请号: 201480003707.6 申请日: 2014-03-04
公开(公告)号: CN104870364B 公开(公告)日: 2017-09-01
发明(设计)人: 和田拓也;中寿贺章;豊田昌宏 申请(专利权)人: 积水化学工业株式会社;国立大学法人大分大学
主分类号: C01B32/225 分类号: C01B32/225;C01B32/19
代理公司: 北京市柳沈律师事务所11105 代理人: 张涛
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 结构 gic 制造 方法 薄片 化石 分散
【权利要求书】:

1.一种薄片化石墨分散液的制造方法,其包括以下工序:

通过下述无规结构GIC的制造方法得到无规结构GIC的工序;

在所述无规结构GIC中添加含有表面活性剂的极性溶剂的工序;以及

在所述含有表面活性剂的极性溶剂中添加所述无规结构GIC之后,在添加了所述无规结构GIC的所述含有表面活性剂的极性溶剂中对所述无规结构GIC进行剥离处理的工序,

所述无规结构GIC的制造方法包括以下工序:

准备碱金属-GIC的工序,所述碱金属-GIC是在石墨烯层间插入了碱金属而得到的;以及

在非氧化性气氛下使极性质子性溶剂与所述碱金属-GIC接触的工序。

2.根据权利要求1所述的薄片化石墨分散液的制造方法,其中,所述非氧化性气氛下是不活泼气体气氛下。

3.根据权利要求1或2所述的薄片化石墨分散液的制造方法,其中,

所述无规结构GIC的制造方法在所述非氧化性气氛下使所述极性质子性溶剂与所述碱金属-GIC接触的工序之后,还包括将所述碱金属-GIC暴露在含氧气氛下的工序。

4.根据权利要求3所述的薄片化石墨分散液的制造方法,其中,所述含氧气氛为空气中。

5.根据权利要求1或2所述的薄片化石墨分散液的制造方法,其中,所述极性质子性溶剂为水或醇。

6.根据权利要求5所述的薄片化石墨分散液的制造方法,其中,所述极性质子性溶剂为水。

7.根据权利要求1或2所述的薄片化石墨分散液的制造方法,其中,所述碱金属使用选自K、Li、Rb及Cs中的至少一种碱金属。

8.根据权利要求1或2所述的薄片化石墨分散液的制造方法,其中,所述准备碱金属-GIC的工序通过使碱金属蒸气在真空下与石墨接触来进行。

9.根据权利要求1所述的薄片化石墨分散液的制造方法,其中,所述极性溶剂使用水或者低级醇。

10.根据权利要求9所述的薄片化石墨分散液的制造方法,其中,所述表面活性剂为月桂基硫酸钠。

11.根据权利要求10所述的薄片化石墨分散液的制造方法,其中,所述含有月桂基硫酸钠的溶剂的浓度在0.1重量%以上且10重量%以下的范围。

12.一种薄片化石墨分散液,其通过权利要求1~11中任一项所述的薄片化石墨分散液的制造方法得到。

13.一种薄片化石墨,其通过从权利要求12所述的薄片化石墨分散液中除去溶剂而得到。

14.根据权利要求13所述的薄片化石墨,其具有长度方向且具有带状的形状。

15.根据权利要求14所述的薄片化石墨,其中,所述具有长度方向的多个所述带状的薄片化石墨集合成网络状,并且该带状薄片化石墨的主面彼此重叠。

16.根据权利要求15所述的薄片化石墨,其包含具有六边形形状且相对的边彼此之间的间隔为10μm以上的薄片化石墨。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于积水化学工业株式会社;国立大学法人大分大学,未经积水化学工业株式会社;国立大学法人大分大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201480003707.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top