[发明专利]层叠体、导电性图案、电路及层叠体的制造方法有效
申请号: | 201480005817.6 | 申请日: | 2014-01-21 |
公开(公告)号: | CN104936774B | 公开(公告)日: | 2017-11-14 |
发明(设计)人: | 村川昭;白发润;富士川亘;齐藤公惠 | 申请(专利权)人: | DIC株式会社 |
主分类号: | B32B15/08 | 分类号: | B32B15/08;H05K1/03;H05K3/38 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司11021 | 代理人: | 葛凡 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 层叠 导电性 图案 电路 制造 方法 | ||
1.一种层叠体,其特征在于,其为至少由包含支承体的层A、底涂层B、第一导电层C、绝缘层D、和第二导电层E层叠而成的层叠体,
所述底涂层B仅含有选自聚氨酯树脂b1、乙烯基树脂b2、及聚氨酯-乙烯基复合树脂b3中的1种以上的树脂作为树脂,
所述绝缘层D为至少在所述第一导电层C的表面的一部分或全部涂布树脂组合物d并干燥而形成的层,
所述第一导电层C为由第一镀核层C-1和设置在所述第一镀核层C-1的表面的第一镀层C-2构成的层,
第一镀核层C-1是在所述底涂层B的表面的一部分或全部涂布含有导电性物质的流动体c-1而形成的,所述导电性物质为过渡金属或其化合物,
所述第二导电层E为由第二镀核层E-1和设置在所述第二镀核层E-1的表面的第二镀层E-2构成的层,
第二镀核层E-1是在所述绝缘层D的表面的一部分或全部涂布含有导电性物质的流动体e-1而形成的,所述导电性物质为过渡金属或其化合物。
2.根据权利要求1所述的层叠体,其中,所述绝缘层D含有选自聚氨酯树脂d1、乙烯基树脂d2、及聚氨酯-乙烯基复合树脂d3中的1种以上树脂。
3.根据权利要求2所述的层叠体,其中,所述聚氨酯-乙烯基复合树脂d3为由作为聚氨酯树脂d3-1的壳层、以及作为所述乙烯基树脂d3-2的核层构成的复合树脂。
4.根据权利要求3所述的层叠体,其中,所述聚氨酯树脂d3-1具有2,000mmol/kg~5,500mmol/kg的脂肪族环式结构。
5.根据权利要求1所述的层叠体,其中,所述聚氨酯-乙烯基复合树脂b3为由作为聚氨酯树脂b3-1的壳层、以及作为所述乙烯基树脂b3-2的核层构成的复合树脂。
6.根据权利要求5所述的层叠体,其中,所述聚氨酯树脂b3-1具有2,000mmol/kg~5,500mmol/kg的脂肪族环式结构。
7.根据权利要求1所述的层叠体,其中,形成所述底涂层B及绝缘层E的树脂具有交联性官能团。
8.根据权利要求7所述的层叠体,其中,所述交联性官能团为选自羟甲基酰胺基及烷氧基甲基酰胺基中的1种以上热交联性官能团。
9.根据权利要求1所述的层叠体,其中,所述流动体c-1和流动体e-1中所含有的导电性物质是银,所述第一镀层C-2和第二镀层E-2为镀铜层。
10.一种导电性图案,其包含权利要求1~9中任一项所述的层叠体。
11.一种电路,其具有权利要求10所述的导电性图案。
12.一种权利要求1所述的层叠体的制造方法,其特征在于,其经过如下工序:
工序[1],其在支承体的表面的一部分或全部涂布用于形成底涂层B的底涂剂,在该涂布面的一部分或全部涂布含有导电性物质的流动体c-1,由此将包含支承体的层A、底涂层B和第一镀核层C-1进行层叠;
工序[2],其对所述第一镀核层C-1的表面的一部分或全部进行镀敷处理,由此形成在所述第一镀核层C-1的表面层叠有第一镀层C-2的第一导电层C;
工序[3],其至少在所述第一镀层C-2的表面的一部分或全部涂布用于形成绝缘层D的树脂组合物d,在该涂布面的一部分或全部涂布含有导电性物质的流动体e-1,由此在所述第一导电层C的表面层叠所述绝缘层D,并且在所述绝缘层D的表面层叠第二镀核层E-1;以及
工序[4],其对所述第二镀核层E-1的表面的一部分或全部进行镀敷处理,由此形成在所述第二镀核层E-1的表面层叠有第二镀层E-2的第二导电层E。
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