[发明专利]防反射膜及其制造方法有效
| 申请号： | 201480006539.6 | 申请日： | 2014-01-27 |
| 公开（公告）号： | CN104956241B | 公开（公告）日： | 2018-06-08 |
| 发明（设计）人： | 岸敦史;上野友德;仓本浩贵 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/11 | 分类号： | G02B1/11;B32B7/02;G02B5/30;G02F1/1335;G09F9/00 |
| 代理公司： | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人： | 白丽 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 折射率 基材 防反射膜 折射率层 低折射率层 高折射率层 形成用组合物 粘合剂树脂 低反射性 反射性能 无机微粒 低成本 宽带域 色相 反射 固化 制造 | ||
1.一种防反射膜，其具有基材和自所述基材侧起依次具有的中折射率层、高折射率层及低折射率层，
所述基材的折射率为1.45～1.65的范围，
所述中折射率层是通过在所述基材上涂布包含粘合剂树脂与无机微粒的中折射率层形成用组合物并进行固化而形成的，并且折射率为1.67～1.78的范围，厚度为70nm～120nm，
所述高折射率层的折射率为2.00～2.60的范围，厚度为14nm～25nm，
所述低折射率层的折射率为1.35～1.55的范围，厚度为70nm～120nm，
所述防反射膜的反射色相在CIE-Lab表色系统中为0≤a＊≤15、-20≤b＊≤0。
2.根据权利要求1所述的防反射膜，其中，所述高折射率层的厚度为10nm～20nm。
3.根据权利要求1所述的防反射膜，其中，所述高折射率层是通过金属氧化物或金属氮化物的溅射而形成的、或者是通过一面导入氧使金属氧化一面进行溅射而形成的。
4.根据权利要求1所述的防反射膜，其中，所述粘合剂树脂为电离射线固化型树脂，所述无机微粒是粒径为1nm～100nm的氧化锆粒子或氧化钛粒子。
5.一种防反射膜的制造方法，其包含下述步骤：
在基材上涂布包含粘合剂树脂与无机微粒的中折射率层形成用组合物并使其固化而形成中折射率层，
在所述中折射率层上溅射金属氧化物或金属氮化物、或者一面导入氧使金属氧化一面进行溅射而形成高折射率层，及
在所述高折射率层上溅射金属氧化物或金属氟化物而形成低折射率层，
其中，所述基材的折射率为1.45～1.65的范围，
所述中折射率层的折射率为1.67～1.78的范围，厚度为70nm～120nm，
所述高折射率层的折射率为2.00～2.60的范围，厚度为14nm～25nm，
所述低折射率层的折射率为1.35～1.55的范围，厚度为70nm～120nm，
所述防反射膜的反射色相在CIE-Lab表色系统中为0≤a＊≤15、-20≤b＊≤0。
6.一种带有防反射膜的偏振片，其包含权利要求1所述的防反射膜。
7.一种图像显示装置，其包含权利要求1所述的防反射膜或权利要求6所述的带有防反射膜的偏振片。
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