[发明专利]防反射膜及其制造方法有效
申请号: | 201480006539.6 | 申请日: | 2014-01-27 |
公开(公告)号: | CN104956241B | 公开(公告)日: | 2018-06-08 |
发明(设计)人: | 岸敦史;上野友德;仓本浩贵 | 申请(专利权)人: | 日东电工株式会社 |
主分类号: | G02B1/11 | 分类号: | G02B1/11;B32B7/02;G02B5/30;G02F1/1335;G09F9/00 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 白丽 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 折射率 基材 防反射膜 折射率层 低折射率层 高折射率层 形成用组合物 粘合剂树脂 低反射性 反射性能 无机微粒 低成本 宽带域 色相 反射 固化 制造 | ||
本发明提供一种可以高生产率且低成本制造、在宽带域中具有优异的反射性能(低反射性)、且具有接近中性的优异的反射色相、进而具有优异的机械特性的防反射膜。本发明的防反射膜具有基材、与自基材侧起依次具有的中折射率层、高折射率层及低折射率层。基材的折射率为1.45~1.65的范围,中折射率层是通过在基材上涂布包含粘合剂树脂与无机微粒的中折射率层形成用组合物并进行固化而形成,其折射率为1.67~1.78的范围,厚度为70nm~120nm,高折射率层的折射率为2.00~2.60的范围,厚度为10nm~25nm,低折射率层的折射率为1.35~1.55的范围,厚度为70nm~120nm。
技术领域
本发明涉及一种防反射膜及其制造方法。更详细而言,本发明涉及一种包含干式工艺与湿式工艺的防反射膜的制造方法及利用此种制造方法所获得的防反射膜。
背景技术
一直以来,为了防止外界光映入CRT(Cathode-Ray Tube,阴极射线管)、液晶显示装置、等离子显示面板等显示器画面,广泛使用配置在显示器画面的表面的防反射膜。作为防反射膜,已知例如具有由中折射率材料构成的层、由高折射率材料构成的层及由低折射率材料构成的层的多层膜。已知通过使用上述多层膜可获得高的防反射性能(在宽带域中低的反射率)。上述多层膜通常是通过蒸镀法或溅射法等干式工艺(干式法)而形成的。然而,干式工艺存在生产率差、制造成本变高的问题。
为了解决上述问题,提出了下述方案:将干式工艺与如涂覆或涂布那样的湿式工艺(湿式法)进行组合所获得的多层防反射膜(例如专利文献1)。然而,对于以专利文献1为代表的到目前为止所提出的技术,生产率及成本降低效果均不充分,所获得的防反射膜的光学特性也均不充分。
然而,防反射膜的防反射性能通常是用视觉反射率Y(%)进行评价的,该视觉反射率越低,防反射性能越优异。然而,如果要降低视觉反射率,则存在反射色相易产生着色的问题。
如上所述,强烈期望一种兼具低的视觉反射率与着色小且接近中性的反射色相的多层防反射膜、及可以以高生产率且低成本获得此种膜的技术。
现有技术文献
专利文献
专利文献1:日本特开2002-243906号公报
发明内容
发明所要解决的技术问题
本发明是为了解决上述现有的技术问题而作出的,其目的在于提供一种在宽带域中具有优异的反射特性(低反射性)且接近中性的优异的反射色相进而具有优异的机械特性的防反射膜、及可以以高生产率且低成本制造此种防反射膜的方法。
用于解决技术问题的手段
本发明的防反射膜具有基材和自该基材侧起依次具有的中折射率层、高折射率层及低折射率层;该基材的折射率为1.45~1.65的范围;该中折射率层是通过在该基材上涂布包含粘合剂树脂与无机微粒的中折射率层形成用组合物并进行固化而形成的,并且折射率为1.67~1.78的范围,厚度为70nm~120nm;该高折射率层的折射率为2.00~2.60的范围,厚度为10nm~25nm;该低折射率层的折射率为1.35~1.55的范围,厚度为70nm~120nm。
在一个实施方式中,上述高折射率层的厚度为10nm~20nm。
在一个实施方式中,上述高折射率层是通过金属氧化物或金属氮化物的溅射而形成的、或者是通过一面导入氧使金属氧化一面进行溅射而形成的。
在一个实施方式中,上述粘合剂树脂为电离射线固化型树脂,上述无机微粒是粒径为1nm~100nm的氧化锆粒子或氧化钛粒子。
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