[发明专利]用于质谱流式细胞术的样品分析

权利要求书

1.一种激光烧蚀质谱流式细胞术分析方法，所述方法使用激光烧蚀质谱流式细胞仪，所述方法包括：

a)将激光束的脉冲导向样品的多个位点以便产生对于每个脉冲的样品的烧蚀羽流；

b)区别性地捕获每个烧蚀羽流；

c)将每个区别性地捕获的烧蚀羽流转移至电感耦合等离子体(ICP)；和

d)在所述电感耦合等离子体中电离区别性地捕获和转移的烧蚀羽流中的每一个，从而产生用于质谱流式细胞术分析的离子，

其中所述激光烧蚀质谱流式细胞仪包括：

激光烧蚀源，其用于产生来自样品的烧蚀羽流；

电感耦合等离子体源，其用于产生所述电感耦合等离子体；和

喷射器，其适合于将所述烧蚀羽流转移至所述电感耦合等离子体；

所述喷射器具有定位在所述激光烧蚀源内的喷射器入口，

所述喷射器入口被配置为用于捕获所述烧蚀羽流；和

与所述喷射器入口耦合的进气口，所述进气口被配置成将气体从所述进气口传送至所述喷射器入口以将所捕获的烧蚀羽流转移进所述电感耦合等离子体，

以及其中所述喷射器入口具有采样锥体的形式，其中所述采样锥体的较窄部分是所述喷射器入口的孔。

2.如权利要求1所述的方法，其中所述烧蚀羽流通过对准置于基底上的包含样品的靶的激光脉冲来产生。

3.如权利要求1所述的方法，其中所述烧蚀羽流通过穿过包含所述样品的透明靶引导的激光脉冲来产生。

4.如权利要求3所述的方法，其中所述透明靶包含透明基底，所述样品被放置于所述透明基底上。

5.如权利要求1所述的方法，其中所述采样锥体定位在产生所述烧蚀羽流的区域附近。

6.如权利要求5所述的方法，其中所述采样锥体定位在离包含样品的靶的表面约100微米处。

7.如权利要求1以及4-6中的任一项所述的方法，其中所述孔的直径

a)是可调整的；

b)尺寸被设置为阻止当所述烧蚀羽流传入所述喷射器时对所述烧蚀羽流的干扰；和/或

c)约等于所述烧蚀羽流的横截面直径。

8.如权利要求1所述的方法，其中所述孔的直径为约100微米。

9.如权利要求4-6以及8中的任一项所述的方法，还包括将气流引入进所述喷射器入口和包含样品的靶之间的区域，以有助于引导所述烧蚀羽流通过所述喷射器入口。

10.如权利要求9所述的方法，其中所述气流横向于所述靶并且至少在喷射器内腔的邻近所述喷射器入口的部分中横向于所述喷射器内腔的中心线。

11.如权利要求9所述的方法，其中所述靶是透明靶。

12.如权利要求10或11所述的方法，其中所述气流包含氩气。

13.如权利要求10或11所述的方法，还包括将转移气流引入所述喷射器以便朝向所述电感耦合等离子体转移所述烧蚀羽流。

14.如权利要求13所述的方法，其中所述气流为约每分钟0.1升且所述转移气流为约每分钟0.9升。

15.如权利要求13所述的方法，其中所述转移气流包含氩气。

16.如权利要求1、4-6、8、10以及14-15中的任一项所述的方法，其中所述样品在基底上，且所述烧蚀羽流通过从与所述样品相同的一侧被导向所述样品的激光脉冲来产生。

17.如权利要求1、4-6、8、10-11以及14-15中的任一项所述的方法，其中所述进气口被配置成将强力冲洗气流导向至形成所述烧蚀羽流的区域附近，以朝向所述喷射器入口引导所述烧蚀羽流。

18.如权利要求17所述的方法，其中所述进气口包括具有小于所述喷射器入口的直径的孔的喷嘴。

19.如权利要求1、4-6、8、10-11、14-15和18中的任一项所述的方法，其中所述激光束来自飞秒激光器。

20.如权利要求1所述的方法，其中所述烧蚀羽流通过穿过包含透明基底和所述样品的透明靶引导的激光脉冲来产生。