[发明专利]用于质谱流式细胞术的样品分析

说明书

相关申请的交叉引用

本申请要求2013年4月17提交的美国临时申请号61/812,893的权益，其全部内容通过引用被并入本文。

技术领域

本发明涉及用于细胞分析的借助于质谱流式细胞术的激光烧蚀装置和方法。

发明背景

与电感耦合等离子体质谱(ICP-MS)联合的激光烧蚀可用于标记有元素标签的生物样品(细胞、组织等)的成像。每个激光脉冲产生来自样品的烧蚀物质的羽流，其可被转移以被电离用于通过质谱分析仪的进一步分析。然后，从样品上的每个位置的激光脉冲获得的信息可用于基于其被分析的内容物而对样品成像。然而，这种技术在其分别辨认产生自针对样品的每个激光烧蚀脉冲的烧蚀物质的单独羽流的能力上具有局限性。

发明概述

在一个方面，本发明提供了激光烧蚀质谱流式细胞术分析方法，包括：将激光束的脉冲导向样品以便产生对于每个脉冲的样品的羽流；区别性地捕获对于每个脉冲的每个羽流；将区别性地捕获的羽流转移至ICP；以及在ICP中电离区别性地捕获和转移的羽流并产生用于质谱流式细胞术分析的离子。

在相关的方面，本发明提供了激光烧蚀质谱流式细胞仪，包括：用于产生来自样品的烧蚀的羽流的激光烧蚀源和适合于将激光烧蚀源与质谱流式细胞仪的ICP耦合的喷射器；所述喷射器具有定位在激光烧蚀源内的入口，所述入口被配置为用于当烧蚀羽流产生时捕获烧蚀羽流；以及耦合至喷射器的入口的进气口，用于在其间传送气体以便将所捕获的烧蚀羽流转移进ICP。

为了说明而非限制性的目的，还公开了本发明的以下示例性的方面。

方面1.公开了一种使用激光烧蚀质谱流式细胞仪的激光烧蚀质谱流式细胞术分析方法，所述方法包括：a)将激光束的脉冲导向样品的多个位点以便产生对于每个脉冲的样品的烧蚀羽流；b)区别性地捕获每个烧蚀羽流；c)将每个区别性地捕获的烧蚀羽流转移至电感耦合等离子体(ICP)；以及d)在ICP中电离区别性地捕获和转移的烧蚀羽流中的每个，从而产生用于质谱流式细胞术分析的离子。

方面2.如方面1的方法，其中所述激光烧蚀质谱流式细胞仪包括：用于产生来自样品的烧蚀羽流的激光烧蚀源；用于产生ICP的ICP源；和适合于将烧蚀羽流转移至ICP的喷射器；所述喷射器具有定位在激光烧蚀源内的喷射器入口，所述喷射器入口被配置为用于捕获烧蚀羽流；以及耦合至喷射器的入口的进气口，所述进气口被配置为将气体从所述进气口传送至所述喷射器入口以便将所捕获的烧蚀羽流转移进所述ICP。

方面3.如方面2的方法，其中所述喷射器入口被配置为用于当烧蚀羽流产生时捕获所述烧蚀羽流的全部或部分。

方面4.如方面1-3的任一项的方法，其中所述烧蚀羽流通过对准置于基底上的包含样品的靶的激光脉冲来产生。

方面5.如方面1-3的任一项的方法，其中所述烧蚀羽流通过穿过包含所述样品的透明靶引导的激光脉冲来产生。

方面6.如方面5的方法，其中所述透明靶包含所述样品被放置于其上的透明基底。

方面7.如方面2-6的任一项的方法，其中所述喷射器入口具有采样锥体的形式，其中所述锥体的较窄部分是喷射器入口的孔。

方面8.如方面7的方法，其中所述采样锥体定位在产生烧蚀羽流的区域附近。

方面9.如方面8的方法，其中所述采样锥体定位在远离靶的表面约100微米处。

方面10.如方面7-9的任一项的方法，其中所述孔的直径a)是可调整的；b)尺寸被设置为阻止当所述烧蚀羽流传入所述喷射器时对所述烧蚀羽流的干扰；和/或c)约等于所述烧蚀羽流的横截面直径。

方面11.如方面7的方法，其中所述孔的直径为约100微米。

方面12.如方面4-12的任一项的方法，还包括将气流引入进喷射器入口和靶之间的区域，以有助于引导羽流通过喷射器入口。

方面13.如方面13的方法，其中所述气流横向于所述靶并且至少在喷射器内腔的邻近所述喷射器入口的部分中横向于喷射器内腔的中心线。

方面14.如方面12或13的方法，其中所述靶是透明靶。

方面15.如方面12-14的任一项的方法，其中所述气流包含氩气。

方面16.如方面12-15的任一项的方法，还包括将转移气流引入喷射器以便朝向ICP转移所述羽流。

方面17.如方面16的方法，其中所述气流为约每分钟0.1升且所述转移流为约每分钟0.9升。

方面18.如方面16或17的方法，其中所述转移流包含氩气。