[发明专利]将结构施加到元件尤其是角度测量系统的元件的方法

权利要求书

1.一种利用标记系统(1)将结构施加到至少一个元件(12；24)的方法，其中所述至少一个元件(12；24)相对于轴(16)布置，所述方法的特征在于以下步骤：

步骤a)将所述轴(16)或具有相对于所述轴(16)布置的所述元件(12；24)的所述轴布置在所述标记系统(1)中；

步骤b)确定所述轴(16)的相对于所述标记系统(1)的参考点的位置和/或旋转中心；

步骤c)将结构施加到所述元件(12；24)。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，考虑所述轴(16)的位置和/或旋转中心的确定来施加所述结构。

3.根据权利要求1或2所述的方法，其中，所述轴(16)或具有相对于所述轴(16)布置的所述元件(12；24)的所述轴(16)在步骤a)后的所有步骤期间被保留在所述标记系统(1)中。

4.根据权利要求1或2所述的方法，其中，在步骤a)和步骤b)之间，将形状配合的测量体(22)放置在所述轴(16)上，借助于所述测量体(22)，确定所述轴(16)的位置和/或旋转中心与所述标记系统(1)的参考点的关系。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，借助于测量体(22)来确定所述轴(16)的位置和/或旋转中心，所述测量体(22)形成为主动测量体(22)。

6.根据权利要求4所述的方法，其中，借助于测量体(22)来确定所述轴(16)的位置和/或旋转中心，所述测量体(22)能够形成为被动测量体(22)，其中，经由所述测量体(22)的几何设计和/或经由形成在所述测量体(22)上的测量标记来提供所述轴(16)的位置和/或旋转中心的确定。

7.根据权利要求6所述的方法，其中，所述测量标记至少部分地作为预制测量标记被施加到所述测量体(22)。

8.根据权利要求6或7所述的方法，其中，所述测量标记至少部分地在确定所述轴(16)的位置和/或旋转中心的所述步骤期间借助于所述标记系统(1)被施加到所述测量体(22)。

9.根据权利要求6或7所述的方法，其中，所述标记系统(1)包括至少用于确定所述轴(16)的位置和/或旋转中心的至少一个辐射源(2)，其中，在用所述辐射源(2)进行辐射时，所述测量标记在至少一个结构化区域处与非结构化区域相比具有不同的反射行为。

10.根据权利要求4所述的方法，其中，在将所述结构施加到所述至少一个元件(12；24)之前，从所述轴(16)移除所述测量体(22)。

11.根据权利要求1或2所述的方法，其中，使所述轴(16)旋转以确定所述轴(16)的位置和旋转中心。

12.根据权利要求1或2所述的方法，其中，用于确定所述轴(16)的旋转中心和/或位置的所述步骤的所述标记系统(1)的能量密度比用于施加所述结构的所述步骤的能量密度低，其中，所述标记系统(1)形成为激光系统。

13.根据权利要求1或2所述的方法，还包括以下步骤：

将所述元件(12；24)附接到所述轴(16)或附接到包括所述轴(16)的装置，其中，在步骤a)之前或在步骤c)之前实施附接所述元件(12；24)的步骤。

14.根据权利要求13所述的方法，其中，对于将结构施加到相对于所述轴(16)布置的另外的元件(12；24)，仅实施附接所述元件(12；24)的所述步骤和施加所述结构的所述步骤。

15.根据权利要求1或2所述的方法，其中，在将所述结构施加到相对于所述轴(16)布置的所有所述元件(12；24)之后，从所述标记系统(1)移除具有相对于所述轴(16)布置的所述至少一个元件(12；24)的所述轴(16)。

16.一种用于生产角度测量系统或角度测量系统的部件的方法，其中，所述角度测量系统或部件包括具有光学有效结构的至少一个元件(12；24)，其中，根据前述权利要求中的任一项所述的方法将所述结构施加到所述元件(12；24)。