[发明专利]热辅助磁头检查装置以及热辅助磁头检查方法在审

专利信息
申请号: 201480017624.2 申请日: 2014-01-22
公开(公告)号: CN105051815A 公开(公告)日: 2015-11-11
发明(设计)人: 石井慎次郎;村上真一郎 申请(专利权)人: 株式会社日立高新技术
主分类号: G11B5/455 分类号: G11B5/455;G01Q30/06;G11B5/31
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 范胜杰;文志
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 辅助 磁头 检查 装置 以及 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种能够检查热辅助磁头所产生的近场光的产生状态的热辅助磁头检查装置以及热辅助磁头检查方法。

背景技术

近年来,为了测定薄膜磁头的产生磁场形状并检查磁的有效磁轨宽度等,使用组装了具有原子尺度的高分辨率的磁力显微镜等的磁头检查装置。在磁力显微镜中具有安装了磁场检测用磁性探针的悬臂,使其在磁头上进行扫描移动,检测探针的位移量,由此来测定磁场形状。在专利文献1中公开了一种技术,将晶片上形成的多个磁头元件连接的长形条状态的薄膜磁头作为对象,通过焊接垫将记录信号输入到各个磁头元件,通过上述悬臂测定从各个磁头元件产生的磁场的样子。

另一方面,作为要求飞跃性的高容量化的下一代硬盘的新技术,提出了一种基于热辅助的磁记录方式。通过导入将近场光作为热源的热辅助方式的磁头,还能够实现20nm左右的窄磁轨宽度记录。例如在专利文献2中公开了以提高近场光的产生效率为目的的热辅助记录磁头的结构。这里作为近场光产生部,使用一种具有导电性的结构体,该结构体具有与在波导中传输的入射光的偏振方向垂直的方向的宽度朝向产生近场光的顶点部逐渐变小的截面形状,并且成为在入射光的行进方向上朝向产生近场光的顶点部宽度逐渐变小或者阶段性变小的形状。

在热辅助磁头中,为了检查其有效磁轨宽度,需要测定从磁头产生的近场光的强度分布等。例如在专利文献3中,作为检测近场光的技术公开了一种近场光评价装置,其使扫描型的探针接近近场光产生元件,通过使近场光散射来区别近场光和其他的光从而进行检测。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2009-230845号公报

专利文献2:日本特开2011-146097号公报

专利文献3:日本特开2006-38774号公报

发明内容

发明要解决的课题

根据专利文献1和专利文献3所记载的技术,虽然对于热辅助磁头产生的磁场和近场光能够分别单独地测定,但没有特别考虑将两者的测定位置关联起来进行测定。在热辅助磁头的测定中,需要在近场光产生区域通过悬臂的前端部的探针来检测产生的散射光,必须使磁场与近场光的测定位置一致。例如不可避免在更换悬臂时等悬臂的安装位置发生偏离,测定出的磁场与近场光的位置关系产生偏离,测定精度可能会发生恶化。

本发明的目的在于提供一种热辅助磁头检查装置以及热辅助磁头检查方法,在测定热辅助磁头产生的磁场和近场光时,即使在更换悬臂时发生位置偏离也会自动地对其进行调整。

用于解决课题的手段

本发明的热辅助磁头检查装置具备:XY工作台,载置热辅助磁头并将其在二维方向上进行扫描;悬臂,在前端具有磁性探针并通过预定频率被激励;Z工作台,将悬臂保持在距离热辅助磁头的表面的预定高度;磁头磁场检测系统,根据悬臂的位移量测定热辅助磁头产生的磁场;近场光检测系统,根据在悬臂位置产生的散射光测定热辅助磁头产生的近场光;光学系统工作台,搭载近场光检测系统并使其在二维方向上移动;图像显示部,通过照相机拍摄悬臂和热辅助磁头的位置关系来进行显示;以及控制部,控制XY工作台和光学系统工作台使得热辅助磁头和悬臂以及近场光检测系统成为预定的位置关系,在更换了悬臂时,控制部参照图像显示部计算悬臂的更换造成的位置偏离量,使光学系统工作台移动计算出的位置偏离量。

发明的效果

根据本发明,在测定热辅助磁头产生的磁场和近场光时,即使在更换悬臂时发生位置偏离也会自动地对其进行调整,作业效率得到提高。

附图说明

图1是表示热辅助磁头检查装置的一个实施例的概要结构图(平面图)。

图2是表示热辅助磁头检查装置的一个实施例的概要结构图(侧面图)。

图3是表示悬臂更换时的对位用画面的图。

图4是表示悬臂更换时的工作台位置调整的流程图。

图5是表示磁头更换时的对位用画面的图。

图6是表示磁头更换时的工作台位置调整的流程图。

具体实施方式

以下,使用附图来说明本发明的实施例。

实施例1

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