[发明专利]薄壁化的玻璃基板的制造方法

权利要求书

1.一种利用湿式蚀刻而薄壁化的玻璃基板的制造方法，其特征在于，其包括：将包含作为(A)成分的树脂的组合物涂布到玻璃面板外周部、形成外周部密封的工序；和使用氢氟酸系蚀刻液进行湿式蚀刻加工而薄壁化的工序，

所述树脂是使选自聚丁二烯多元醇、氢化聚丁二烯多元醇、聚异戊二烯多元醇以及氢化聚异戊二烯多元醇中的多元醇(a1)与交联剂(a2)反应而得到的。

2.根据权利要求1所述的基板的制造方法，其特征在于，所述多元醇(a1)与所述交联剂(a2)的反应为酯键形成反应。

3.根据权利要求1所述的基板的制造方法，其特征在于，所述多元醇(a1)与所述交联剂(a2)的反应为氨基甲酸酯键形成反应。

4.根据权利要求1～3中任一项所述的基板的制造方法，其特征在于，所述多元醇(a1)为氢化聚丁二烯多元醇。

5.根据权利要求1～3中任一项所述的基板的制造方法，其特征在于，所述(A)成分的树脂还具有(甲基)丙烯酸酯基。

6.根据权利要求4中所述的基板的制造方法，其特征在于，所述(A)成分的树脂还具有(甲基)丙烯酸酯基。

7.根据权利要求1～3中任一项所述的基板的制造方法，其特征在于，所述(A)成分的树脂还具有碱溶性基团。

8.根据权利要求4所述的基板的制造方法，其特征在于，所述(A)成分的树脂还具有碱溶性基团。

9.根据权利要求5所述的基板的制造方法，其特征在于，所述(A)成分的树脂还具有碱溶性基团。

10.根据权利要求6所述的基板的制造方法，其特征在于，所述(A)成分的树脂还具有碱溶性基团。

11.根据权利要求1～3中任一项所述的基板的制造方法，其特征在于，所述组合物还含有(B)烯属不饱和单体。

12.根据权利要求4所述的基板的制造方法，其特征在于，所述组合物还含有(B)烯属不饱和单体。

13.根据权利要求5所述的基板的制造方法，其特征在于，所述组合物还含有(B)烯属不饱和单体。

14.根据权利要求6所述的基板的制造方法，其特征在于，所述组合物还含有(B)烯属不饱和单体。

15.根据权利要求7所述的基板的制造方法，其特征在于，所述组合物还含有(B)烯属不饱和单体。

16.根据权利要求8-10中任一项所述的基板的制造方法，其特征在于，所述组合物还含有(B)烯属不饱和单体。

17.根据权利要求11所述的基板的制造方法，其特征在于，所述烯属不饱和单体为碳数6以上的脂肪族或脂环族烷基的(甲基)丙烯酸酯。

18.根据权利要求12-15中任一项所述的基板的制造方法，其特征在于，所述烯属不饱和单体为碳数6以上的脂肪族或脂环族烷基的(甲基)丙烯酸酯。

19.根据权利要求16所述的基板的制造方法，其特征在于，所述烯属不饱和单体为碳数6以上的脂肪族或脂环族烷基的(甲基)丙烯酸酯。

20.根据权利要求1～3中任一项所述的基板的制造方法，其特征在于，所述组合物还含有(C)光聚合引发剂。

21.根据权利要求4所述的基板的制造方法，其特征在于，所述组合物还含有(C)光聚合引发剂。