[发明专利]脱模性能恢复液、脱模性能恢复方法及光掩模

权利要求书

1.一种脱模性能恢复液，其特征在于，其是用来使含硅油的涂膜的降低了的脱模性能恢复的脱模性能恢复液，仅由性能恢复成分和溶剂构成，

所述性能恢复成分以反应性硅油及非反应性硅油构成。

2.如权利要求1所述的脱模性能恢复液，其中，相对于1重量份的非反应性硅油含有3重量份以上且5重量份以下的量的所述反应性硅油。

3.如权利要求1或2所述的脱模性能恢复液，其中，所述性能恢复成分与所述溶剂的重量比例为4∶96～6∶94。

4.一种脱模性能恢复方法，其特征在于，其是使含硅油的涂膜的降低了的脱模性能恢复的方法，将权利要求1～3中任一项所述的恢复液涂布于对象涂膜，以下述条件干燥：

温度：85℃以上且130℃以下

时间：5分钟以上且15分钟以下。

5.一种光掩模，其特征在于，其是将含硅油的保护膜层叠于在玻璃基板上具有薄膜图案的玻璃掩模的所述薄膜图案面而成的光掩模，其中，对所述保护膜应用权利要求4所述的方法使降低了的脱模性能恢复。

6.如权利要求5所述的光掩模，其特征在于，作为所述玻璃掩模使用以铬材料形成了薄膜图案的铬掩模。