[发明专利]脱模性能恢复液、脱模性能恢复方法及光掩模

说明书

技术领域

本发明涉及适于使用于含硅油的涂膜的脱模性能降低时的脱模性能恢复液、利用该溶液的脱模性能恢复方法、与于玻璃掩模的薄膜图案(图像)面层叠利用该方法使脱模性能恢复后的保护膜的光掩模。

背景技术

制作印刷布线板、树脂凸版时，对于具有粘合性的光致抗蚀剂，密合曝光结束的光掩模在自光致抗蚀剂剥离并以溶剂清洗抗蚀剂对置面后，供给于对其他光致抗蚀剂的重复利用。自过去以来，为防止该重复利用时的曝光精度降低，进行于光掩模的薄膜图案面形成具有脱模性的涂膜、或贴合设有该涂膜的表面保护膜(专利文献1、2)。据此，防止以溶剂清洗后光致抗蚀剂残留于光掩模的薄膜图案面。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2000-273412号公报(段落编号0008)

专利文献2：日本特开2005-181565号公报(段落编号0005)

发明内容

发明要解决的技术问题

具有脱模性的涂膜多于粘合剂树脂中含硅油作为脱模成分。该涂膜的脱模性能随着光掩模的利用频率增加而降低。因此，某种程度重复利用后，需在光掩模上重新形成新的涂膜，或者有必要另外准备相同图案的光掩模，在成品物(印刷布线板、树脂凸版等，以下亦同)的生产性方面有问题。

本发明一个侧面提供可用于使具有脱模性的涂膜的降低了的脱模性能恢复的脱模性能恢复液。且另一侧面，提供一种可有效地恢复脱模性涂膜的降低的脱模性能的脱模性能恢复方法、及利用该方法恢复了降低后的脱模性能的光掩模。

解决问题的手段

本发明人等对于不于重复利用后的光掩模形成新的涂膜、或者不另外准备与该光掩模相同图案的光掩模，而可提高成品物的生产性的对策进行研究。结果，构思了只要恢复降低后的脱模性能即可的新的课题。因此，发现以大量溶剂稀释规定的性能恢复成分而成的溶液可有效地恢复含具有脱模性的硅油的涂膜的降低后的脱模性能，因而完成了本发明。

另外，本发明所称的含硅油的涂膜具有脱模性能，在例如印刷基板制作工序等中，作为使具有粘合性的光致抗蚀剂(液状光致抗蚀剂等)曝光时于原型(光掩模)的表面等形成或贴合的保护膜加以利用。

本发明的脱模性能恢复液为了恢复含硅油的涂膜的降低的脱模性能而使用。该恢复液的特征在于仅以性能恢复成分与溶剂构成，且性能恢复成分以反应性硅油及非反应性硅油构成。

本发明的脱模性能恢复方法是使含硅油的涂膜的降低了的脱模性能恢复的方法，其特征在于将本发明的脱模性能恢复液涂布于对象涂膜(脱模性能降低的含硅油的涂膜)，以下述条件干燥。温度：85℃以上且130℃以下，时间：5分钟以上且15分钟以下。

本发明的光掩模的特征在于对于在玻璃基板上具有薄膜图案的玻璃掩模的前述薄膜图案面层叠的含硅油的保护膜，应用本发明的脱模性能恢复方法，使降低后的脱模性能恢复。

本发明包含以下方式。

(1)脱模性能恢复液中，性能恢复成分中的含有比例相对于非反应性硅油：1重量份，反应性硅油：1.5重量份以上且7重量份以下(尤其是3重量份以上且5重量份以下)。

(2)脱模性能恢复液中，可将性能恢复成分与溶剂的重量比例设为2.5∶97.5～8∶92(尤其是4∶96～6∶94)。

(3)脱模性能恢复方法中，可将干燥条件设为温度：90℃以上且120℃以下，时间：8分钟以上且12分钟以下。

(4)作为供保护膜形成的玻璃掩模，可使用以铬材料形成了薄膜图案的铬掩模。

发明的效果

本发明的脱模性能恢复液由于含规定的性能恢复成分，故可用于恢复具有脱模性的涂膜的降低的脱模性能。

本发明的脱模性能恢复方法由于将含规定性能恢复成分的溶液涂布于对象涂膜，并且以规定条件干燥，故可有效恢复具有脱模性的涂膜的降低的脱模性能。

本发明的光掩模由于对脱模性能降低的保护膜应用本发明的脱模性能恢复方法，由此使降低后的脱模性能恢复，故可提供于曝光操作的重复利用。结果，一个光掩模的重复使用耐性增加，结果达成成品物的生产性提高。

具体实施方式

首先，说明本发明的脱模性能恢复液的构成例。

本例的脱模性能恢复液仅以性能恢复成分与稀释溶剂构成，不含所谓的粘合剂成分。由于不含粘合剂成分，故容易制成薄膜，可以在维持保护膜的性能(硬度、透射率等)的状态下仅恢复脱模性。

本例的性能恢复成分为了恢复含硅油的涂膜的降低的脱模性能而使用。本成分以反应性硅油与非反应性硅油的混合物构成。