[发明专利]浮法平板玻璃制造方法

权利要求书

1.一种浮法平板玻璃制造方法，其中，在浮抛窑内的500～1200℃的还原气氛中，将含氯气体和含氟气体以分别满足下述式(1)、(2)所示的条件的方式喷雾到玻璃带表面上，

(6.92u1+15.8)c1t1·exp(-4303/T1)>r (1)

式(1)中，c1为含氯气体的氯浓度[体积％]，u1为含氯气体的线速度[cm/s]，t1为含氯气体的喷雾时间[s]，T1为玻璃带的表面温度[K]，r为玻璃带表面上存在的锡缺陷的半径[μm]；

(6.92u2+15.8)c2t2·exp(-4303/T2)>r (2)

式(2)中，c2为含氟气体的氟浓度[体积％]，u2为含氟气体的线速度[cm/s]，t2为含氟气体的喷雾时间[s]，T2为玻璃带的表面温度[K]，r为玻璃带表面上存在的锡缺陷的半径[μm]。

2.如权利要求1所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，在将制造的玻璃的玻璃化转变温度设为Tg时，在浮抛窑内的Tg+30℃～Tg+300℃的还原气氛中，将所述含氯气体和所述含氟气体喷雾到所述玻璃带表面上。

3.如权利要求1或2所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氯气体为氯化氢(HCl)。

4.如权利要求1或2所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氟气体为氟化氢(HF)。

5.如权利要求1或2所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氯气体的氯浓度c1[体积％]与所述含氟气体的氟浓度c2[体积％]的合计c1+c2大于5[体积％]。

6.如权利要求5所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氯气体的氯浓度c1[体积％]为2[体积％]以上。

7.如权利要求5所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氟气体的氟浓度c2[体积％]为2[体积％]以上。

8.如权利要求1或2所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氯气体的氯浓度c1[体积％]与所述含氯气体的喷雾时间t1[s]的乘积c1×t1与所述含氟气体的氟浓度c2[体积％]与所述含氟气体的喷雾时间t2[s]的乘积c2×t2之和(c1×t1)+(c2×t2)大于120[体积％×s]。

9.如权利要求1或2所述的浮法平板玻璃制造方法，其中，所述含氯气体的喷雾时间t1[s]或所述含氟气体的喷雾时间t2[s]中的任意一者少于10[s]。

10.一种浮法平板玻璃，其为通过权利要求1～9中任一项所述的浮法平板玻璃制造方法而得到的浮法平板玻璃，其中，

在将浮法平板玻璃的距离与在浮抛窑内与熔融金属接触的面相对的顶面0.05μm深度处的氯含量设为Cl1[重量％]、并将距离所述顶面大于0.05μm且小于等于10μm深度处的氯含量的最小值设为Cl2[重量％]时，Cl1>Cl2；

在将距离所述顶面0.05μm深度处的氟含量设为F1[重量％]、并将距离所述顶面大于0.05μm且小于等于20μm深度处的氟含量的最小值设为F2[重量％]时，F1>F2。

11.一种浮法平板玻璃，其中，

在将浮法平板玻璃的距离与在浮抛窑内与熔融金属接触的面相对的顶面0.05μm深度处的氯含量设为Cl1[重量％]、并将距离所述顶面大于0.05μm且小于等于10μm深度处的氯含量的最小值设为Cl2[重量％]时，Cl1>Cl2；

在将距离所述顶面0.05μm深度处的氟含量设为F1[重量％]、并将距离所述顶面大于0.05μm且小于等于20μm深度处的氟含量的最小值设为F2[重量％]时，F1>F2。

12.如权利要求11所述的浮法平板玻璃，其中，所述浮法平板玻璃为通过在浮抛窑内使含氯气体和含氟气体与所述浮法平板玻璃的玻璃表面接触而进行表面处理而制造的浮法平板玻璃。

13.如权利要求11或12所述的浮法平板玻璃，其中，具有如下区域：距离所述顶面大于0.05μm且小于等于10μm深度处的氯或氟含量高于在浮抛窑内未将含氯气体和含氟气体喷雾到玻璃带表面上的浮法平板玻璃的氯或氟含量。