[发明专利]带防反射层的基材有效
| 申请号： | 201480023346.1 | 申请日： | 2014-04-15 |
| 公开（公告）号： | CN105143924B | 公开（公告）日： | 2017-05-31 |
| 发明（设计）人： | 石关健二;矶部辉;畑中百纪;河合洋平;米田贵重;阿部启介 | 申请（专利权）人： | 旭硝子株式会社 |
| 主分类号： | G02B1/113 | 分类号： | G02B1/113;C01B33/18 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 胡烨,刘多益 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 反射层 基材 | ||
1.一种带防反射层的基材，其是在基材的至少一方的表面上具有防反射层的带防反射层的基材，其特征在于，
所述防反射层包括具有含氟有机基团的二氧化硅类多孔质膜，
在采用扫描型X射线光电子能谱法(ESCA)的表面分析中，防反射层的与基材相反的一侧的表面的由F1s的峰高和Si2p的峰高求得的元素数比F/Si在1以上，且具有3.0nm以下的算术平均粗糙度(Sa)，
所述防反射层包含直径20nm以上的空孔，且防反射层的与基材相反的一侧的表面的开口数在13个/106nm2以下，
所述防反射层中，自直径20nm以上的独立孔起到防反射层的与基材相反的一侧的表面为止的最短距离的平均值为10～80nm。
2.如权利要求1所述的带防反射层的基材，其特征在于，所述防反射层的折射率为1.10～1.38。
3.如权利要求1所述的带防反射层的基材，其特征在于，所述防反射层中，空孔的平均直径为15～100nm。
4.如权利要求2所述的带防反射层的基材，其特征在于，所述防反射层中，空孔的平均直径为15～100nm。
5.如权利要求1所述的带防反射层的基材，其特征在于，所述防反射层的厚度为90～260nm。
6.如权利要求2所述的带防反射层的基材，其特征在于，所述防反射层的厚度为90～260nm。
7.如权利要求3所述的带防反射层的基材，其特征在于，所述防反射层的厚度为90～260nm。
8.如权利要求4所述的带防反射层的基材，其特征在于，所述防反射层的厚度为90～260nm。
9.如权利要求1所述的带防反射层的基材，其特征在于，所述二氧化硅类多孔质膜在以二氧化硅为主要成分的基质中具有多个空孔。
10.如权利要求2所述的带防反射层的基材，其特征在于，所述二氧化硅类多孔质膜在以二氧化硅为主要成分的基质中具有多个空孔。
11.如权利要求3所述的带防反射层的基材，其特征在于，所述二氧化硅类多孔质膜在以二氧化硅为主要成分的基质中具有多个空孔。
12.如权利要求4所述的带防反射层的基材，其特征在于，所述二氧化硅类多孔质膜在以二氧化硅为主要成分的基质中具有多个空孔。
13.如权利要求5所述的带防反射层的基材，其特征在于，所述二氧化硅类多孔质膜在以二氧化硅为主要成分的基质中具有多个空孔。
14.如权利要求6所述的带防反射层的基材，其特征在于，所述二氧化硅类多孔质膜在以二氧化硅为主要成分的基质中具有多个空孔。
15.如权利要求7所述的带防反射层的基材，其特征在于，所述二氧化硅类多孔质膜在以二氧化硅为主要成分的基质中具有多个空孔。
16.如权利要求8所述的带防反射层的基材，其特征在于，所述二氧化硅类多孔质膜在以二氧化硅为主要成分的基质中具有多个空孔。
17.如权利要求1～16中任一项所述的带防反射层的基材，其特征在于，所述防反射层在防反射层的与基材相反的一侧的表面上具有含氟有机基团。
18.如权利要求1～16中任一项所述的带防反射层的基材，其特征在于，所述防反射层在防反射层的与基材相反的一侧的表面上具有含氟有机基团，所述含氟有机基团是来源于具有聚(全氟氧化烯)链和水解性硅烷基的化合物的基团。
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