[发明专利]带防反射层的基材

说明书

技术领域

本发明涉及一种带防反射层的基材、带防反射层的基材的制造方法以及具有带防反射层的基材的显示装置。

背景技术

在手机、便携式信息终端等小型显示器、各种电视机等大型显示器、触摸屏等各种显示装置中，为了保护显示器、提高美观性，大都在显示器件的前表面使用覆盖玻璃(保护玻璃)。为了提高显示装置所显示的图像的视觉辨认度，还在覆盖玻璃的表面使用形成有针对可见光的防反射膜的带防反射膜的玻璃。

对于显示装置中的带防反射膜的玻璃，且不论高拒水性、拒油性，由于人手经常触碰，容易附着指纹等油脂污垢，因此要求油脂污垢除去性。对此，例如提出了将含中空粒子的防污性的防反射膜应用于玻璃等透明基材的方法(专利文献1)。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利特开2008-139581号公报

发明内容

发明所要解决的技术问题

本发明人认为，专利文献1的方法中，从防反射特性优异的角度考虑，较好是增加中空粒子的比例，降低防反射膜的折射率。然而，中空粒子间容易形成空隙，而且在表面上产生凹凸和开放孔，一旦油脂污垢附着污垢就会浸透，无法擦拭干净。从提高防反射膜的平滑性的角度考虑，如果增加防反射膜中的基质成分的比例，则防反射特性急剧下降。

本发明的目的是提供一种防反射特性优异、并且具有优异的拒水性、拒油性和优异的油脂污垢除去性的带防反射层的基材、带防反射层的基材的制造方法以及具有带防反射层的基材的显示装置。

解决技术问题所采用的技术方案

本发明提供具有下述[1]～[15]的构成的带防反射层的基材、带防反射层的基材的制造方法以及具有带防反射层的基材的显示装置。

[1]一种带防反射层的基材，其是在基材的至少一方的表面上具有防反射层的带防反射层的基材，其特征在于，

所述防反射层包括具有含氟有机基团的二氧化硅类多孔质膜，

在采用扫描型X射线光电子能谱法(ESCA)的表面分析中，防反射层的与基材相反的一侧的表面的由F_1s的峰高和Si_2p的峰高求得的元素数比F/Si在1以上，且具有3.0nm以下的算术平均粗糙度(Sa)。

[2][1]的带防反射层的基材，其特征在于，所述防反射层的折射率为1.10～1.38。

[3][1]或[2]的带防反射层的基材，其特征在于，所述防反射层包含直径20nm以上的空孔，且防反射层的与基材相反的一侧的表面的开口数在13个/10⁶nm²以下。

[4][3]的带防反射层的基材，其特征在于，所述防反射层中，自直径20nm以上的独立孔起到防反射层的与基材相反的一侧的表面为止的最短距离的平均值为10～80nm。

[5][3]或[4]的带防反射层的基材，其特征在于，所述防反射层中，空孔的平均直径为15～100nm。

[6][1]～[5]中任一项的带防反射层的基材，其特征在于，所述防反射层的厚度的平均值为90～260nm。

[7][1]～[6]中任一项的带防反射层的基材，其特征在于，所述二氧化硅类多孔质膜在以二氧化硅为主要成分的基质中具有多个空孔。

[8][1]～[7]中任一项的带防反射层的基材，其特征在于，所述防反射层在防反射层的与基材相反的一侧的表面上具有含氟有机基团。

[9][8]的带防反射层的基材，其特征在于，所述含氟有机基团是来源于具有聚(全氟氧化烯)链和水解性硅烷基的化合物的基团。

[10][9]的带防反射层的基材，其特征在于，所述化合物是下式(1)表示的化合物；

A-O-R^f-B…(1)

式(1)中的符号如下所示：

R^f：聚(全氟氧化烯)链，

A：碳原子数1～6的全氟烷基或B，

B：下式(2)表示的基团：

-Q-Si-L_mR_3-m…(2)

式(2)中的符号如下所示：

Q：2价连接基团，

L：水解性基团，

R：氢原子或1价烃基，

m：1～3的整数。

[11][1]～[10]中任一项的带防反射层的基材，其特征在于，所述基材是透明基材。

[12]一种显示装置，其特征在于，具有上述[1]～[11]中任一项的带防反射层的基材。