[发明专利]磨削研磨石、磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法

权利要求书

1.一种磨削研磨石，其为用于对中心具有圆孔的圆盘状的玻璃基板的端面进行磨削的磨削研磨石，其特征在于，

所述磨削研磨石包含研磨粒和将该研磨粒彼此结合的粘结剂，

利用玻氏压头以250mN的压入负荷的条件通过纳米压痕试验法对所述磨削研磨石表面的粘结剂部分进行测定，所得到的硬度为0.4GPa～1.7GPa的范围内。

2.如权利要求1所述的磨削研磨石，其特征在于，所述研磨粒的平均粒径为2μm～15μm的范围内。

3.如权利要求1或2所述的磨削研磨石，其特征在于，所述磨削研磨石是在下述情况下使用的旋转研磨石：在使研磨石的旋转轴相对于与所述玻璃基板的主表面正交的轴倾斜的状态下，使该研磨石与所述玻璃基板的端面抵接，对该玻璃基板的端面进行磨削处理。

4.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，包括使用权利要求1～3中任一项所述的磨削研磨石进行所述玻璃基板的端面的磨削处理的工序。

5.一种磁盘用玻璃基板的制造方法，其为包括下述磨削处理的磁盘用玻璃基板的制造方法，该磨削处理为使用磨削研磨石对中心具有圆孔的圆盘状的玻璃基板的端面进行磨削，所述磁盘用玻璃基板的制造方法的特征在于，

所述磨削研磨石包含研磨粒和将该研磨粒彼此结合的粘结剂，

预先求出利用玻氏压头以250mN的压入负荷的条件通过纳米压痕试验法对所述磨削研磨石表面的粘结剂部分测得的硬度、与利用该磨削研磨石对玻璃基板端面进行磨削处理时的磨削速度的相关关系，

基于所求出的相关关系来选择具有达到所期望的磨削速度的硬度的磨削研磨石，使用该选择的磨削研磨石进行所述磨削处理。

6.如权利要求5所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，所述磨削研磨石的所述粘结剂由树脂材料构成，通过所述纳米压痕试验法测得的硬度为0.4GPa～1.7GPa的范围内。

7.如权利要求5或6所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，使用所述所选择的磨削研磨石，在使该磨削研磨石的旋转轴相对于与所述玻璃基板的主表面正交的轴倾斜的状态下，使该磨削研磨石与所述玻璃基板的端面抵接，对该玻璃基板的端面进行磨削处理。

8.如权利要求4～7中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法，其特征在于，按照所述玻璃基板的端面的表面粗糙度Ra达到0.1μm以下的方式进行磨削处理。

9.一种磁盘的制造方法，其特征在于，在通过权利要求4～8中任一项所述的磁盘用玻璃基板的制造方法所制造的磁盘用玻璃基板的主表面上至少形成磁性层。