[发明专利]磨削研磨石、磁盘用玻璃基板的制造方法和磁盘的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及在搭载于硬盘驱动器(下文中简称“HDD”)等磁记录装置中的磁盘用的玻璃基板制造中用于端面磨削的磨削研磨石、利用该磨削研磨石进行基板的端面磨削的磁盘用玻璃基板的制造方法、以及利用了由该制造方法得到的玻璃基板的磁盘的制造方法。

背景技术

当前，对于信息记录技术、特别是磁记录技术来说，随着IT产业的迅速发展，要求进行飞跃性的技术革新。在作为搭载于HDD等磁记录装置中的记录介质的磁盘中，由于高容量化的要求，需要每一枚磁盘能够实现750GB以上的信息记录密度的技术。

然而，作为磁盘等信息记录介质用基板，以往广泛使用了铝系合金基板，最近，作为适合于高记录密度化的磁盘用基板，玻璃基板所占的比例升高。玻璃基板与铝系合金基板相比刚性更高，因而适合于磁盘装置的高速旋转化，而且可得到平滑的表面，因此容易降低磁头的悬浮量，能够提高记录信号的S/N比，因而是合适的。

另外，为了实现磁盘的高记录密度化，对玻璃基板还要求具有高度的加工精度，这不仅针对玻璃基板的主表面，对端面形状也是同样的。

磁盘用玻璃基板通常是通过对成型为圆盘状的玻璃坯板依次实施端面的磨削·研磨、主表面的磨削·研磨、化学强化等工序而制造的。

作为现有的玻璃基板的端面的加工方法，一边对成型为圆盘状的玻璃坯板(玻璃基板)的端面部分供给磨削液，一边使磨削研磨石在玻璃基板的外周侧端面和内周侧端面接触旋转而进行磨削加工，对玻璃基板的外周侧端面和内周侧端面实施规定的倒角加工(专利文献1等)。该情况下，研磨石通常也称为成型研磨石(総形砥石)，其具有用于形成玻璃基板的端面形状的槽形，通过使该研磨石与玻璃基板的端面接触而进行加工，从而将研磨石的槽形形状转印至玻璃基板的端面。另外，在该倒角加工后，为了将玻璃基板的端面加工成镜面，进行了刷光研磨。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2000-185927号公报

专利文献2：日本特开2006-294099号公报

发明内容

发明要解决的课题

随着信息化社会的发展，对磁盘的高记录密度化的要求也将提高。在磁盘用的玻璃基板的端面形状方面，也要求表面品质(平滑化等)的进一步提高和加工精度(形状精度等)的进一步提高。

其原因是要求实现例如内外径尺寸精度的高精度化、外径端面的高品质化，该内外径尺寸精度的高精度化用于得到搭载于HDD中时的磁头的定位精度，该外径端面的高品质化基于降低对介质主表面发生腐蚀等污染原因的要求。

以往，在基板端面的磨削加工中，首先进行倒角加工等用于形成端面形状的粗磨削加工，接着进行除了用于确保端面形状和尺寸精度外还用于确保表面的粗糙度品质的精密磨削加工(抛光磨削加工)。在上述粗磨削加工中多使用硬度硬的电沉积结合剂研磨石等。

另一方面，在上述精密磨削加工中，为了确保基板端面的抛光面品质，多使用硬度比粗磨削加工用的磨削研磨石软的树脂结合剂研磨石，但实际的磨削研磨石在量产加工中使用时，磨削性能会产生偏差，由此导致各种问题的发生，无法稳定地得到所期望的品质。

关于磨削研磨石的硬度，以往已知利用大越式试验机的硬度试验、利用洛式硬度计的硬度评价等方法。但是，根据本发明人的研究可知，在利用这些方法评价的磨削研磨石的硬度与利用该磨削研磨石实际进行基板端面磨削时的磨削性能(磨削速度、磨削面粗糙度、形状尺寸精度等)之间未确认到明确的相关关系，结果，若不实际进行使用的尝试则无法判断磨削研磨石的好坏。

需要说明的是，在上述专利文献2中记载了下述内容：通过采用在金刚石研磨粒中使用氨基甲酸酯树脂或脲树脂等作为粘合剂(粘结剂)的树脂结合剂研磨石，将加工面的粗糙度Ra抛光成100nm以下，但仅示出了研磨石成分的构成材料，并未公开具体的研磨石规格、特别是影响磨削性能的研磨石的硬度指标。即便研磨石的构成材料相同，若硬度不同，则磨削速度、加工面的品质也会产生差异，在量产加工中难以得到稳定的品质。

如上所述，从高记录密度化等方面出发，玻璃基板的端面的尺寸形状精度或倒角加工的精加工面品质等对于磁盘用玻璃基板的品质要求比以往更高，没有能够准确地评价研磨石性能的指标，若不实际进行使用的尝试看看则无法判断研磨石的性能，在这种状况下，难以稳定地应对今后更高的玻璃基板的品质要求。