[发明专利]RF处理系统的校准

权利要求书

1.一种用于通过由一个或多个辐射元件发射的射频(RF)辐射来处理腔中的物体的设备，该一个或多个辐射元件被配置成用于响应于施加到其上的RF能量来发射该射频辐射，该设备包括：

至少一个RF能量供应部件，该至少一个RF能量供应部件被配置成用于将用于施加的RF能量供应到一个或多个辐射元件；

一个存储器，该存储器存储至少一组系数，每组系数与一个对应的RF能量供应部件关联；以及

一个处理器，该处理器被配置成用于响应于由这些辐射元件中的一个或多个辐射元件发射的RF辐射接收反馈，并且基于该反馈和该至少一组系数来控制将RF能量施加到这些辐射元件中的一个或多个辐射元件。

2.根据权利要求1所述的设备，其中，该至少一组系数包括网络参数值。

3.根据权利要求1所述的设备，其中，该至少一组系数包括误差校正系数，这些误差校正系数被配置成用于校正在对应的RF能量供应部件的运行中的系统误差。

4.根据权利要求1所述的设备，其中，来自该至少一组系数中的一个或多个系数指示对应的RF能量供应部件对一个电信号的一个电响应。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的设备，其中，该至少一个RF能量供应部件包括一个具有低于30dB的方向性的双向耦合器。

6.根据权利要求1-4中任一项所述的设备，其中，该处理器包括：

一个第一处理单元，该第一处理单元被配置成用于接收该反馈，并且基于该至少一组系数来校正该接收的反馈；以及

一个第二处理单元，该第二处理单元被配置成用于基于该校正的反馈来控制该RF能量的施加。

7.根据权利要求1-4中任一项所述的设备，其中，该处理器被配置成用于：

基于该至少一组系数来校正该接收的反馈；并且

基于该校正的反馈来控制该RF能量的施加。

8.根据权利要求1-4中任一项所述的设备，其中，该至少一个RF能量供应部件包括一个RF能量源。

9.根据权利要求1-4中任一项所述的设备，其中，该至少一个RF能量供应部件包括一个RF能量传输线。

10.根据权利要求1所述的设备，包括至少两个RF能量供应部件，并且其中，该存储器被配置成用于存储至少两组系数，每组系数与一个对应的RF能量供应部件关联。

11.根据权利要求1-4和10中任一项所述的设备，其中，该处理器被配置成用于在一个扫描阶段过程中接收该反馈，并且在一个处理阶段过程中基于在该扫描阶段过程中接收的反馈来控制该RF能量的施加。

12.根据权利要求1-4和10中任一项所述的设备，其中，该处理器被配置成用于在一个扫描阶段过程中接收该反馈，在该扫描阶段内RF辐射从该一个或多个辐射元件发射，以用于确定该物体的一个或多个吸收特性而无需实质性处理该物体。

13.根据权利要求1-4和10中任一项所述的设备，其中，该接收的反馈包括用于从该一个或多个辐射元件发射的RF辐射的多个频率中的每一个频率的信息。

14.根据权利要求1-4和10中任一项所述的设备，其中，该接收的反馈包括与该一个或多个辐射元件中的每一个辐射元件关联的信息。

15.根据权利要求1-4和10中任一项所述的设备，其中，该接收的反馈包括取决于该腔对该射频辐射的发射的一个响应的一个或多个网络参数值。

16.根据权利要求1-4和10中任一项所述的设备，其中，该处理器被配置成用于基于该接收的反馈和存储在该存储器中的该至少一组系数来确定该物体的一个校正的电特性。