[发明专利]RF处理系统的校准

说明书

提供了用于处理在一个腔中的一个物体的设备和方法。这些设备包括被配置成用于将用于施加的RF能量供应到一个或多个辐射元件的至少一个射频(RF)能量供应部件，该一个或多个辐射元件被配置成用于响应于该施加的RF能量来发射RF辐射。在一些实施例中，一种提供的设备还包括一个存储器，该存储器存储与该RF能量供应部件关联的一组系数；以及一个处理器，该处理器被配置成用于响应于由该一个或多个辐射元件发射的RF辐射接收反馈，并且基于该反馈和该组系数来控制将RF能量施加到这些辐射元件中的一个或多个辐射元件。

相关申请交叉引用

本申请要求2013年5月21日提交的美国临时专利申请号61/825,760的权益，包括说明书、权利要求书、和附图的该申请的披露以其全部内容通过引用结合在此。

技术领域

这是涉及一种用于施加电磁能的设备和方法，并且更具体地但非排他地用于校准一个RF处理设备的设备和方法的专利申请书。

背景

电磁波已经被用于在不同的应用中向物体供应能量。在射频(RF)辐射的情况下，例如，可使用一个磁控管来供应RF能量，该磁控管通常被调谐至单频用于供应仅在那个频率的RF能量。一种常用的用于供应RF能量的装置一个示例是微波炉。典型的微波炉在或约2.45GHz的单频供应RF能量。

概述

本发明的一些实施例包括一种用于通过由一个或多个辐射元件发射的射频(RF)辐射来处理腔中的物体的设备，该一个或多个辐射元件被配置成用于响应于施加到其上的RF能量来发射该RF辐射。

在一些实施例中，该设备可包括：一个RF能量供应部件，该RF能量供应部件被配置成用于将用于施加的RF能量供应到一个或多个辐射元件；一个存储器，该存储器存储与该RF能量供应部件关联的一组系数；以及一个处理器，该处理器被配置成用于响应于由一个或多个辐射元件发射的RF辐射接收反馈，并且基于该反馈和该组系数来控制将RF能量施加到这些辐射元件中的一个或多个辐射元件。

在一些实施例中，与该RF能量供应部件关联的该组系数包括该RF能量供应部件的网络参数值。

可替代地或此外，与该RF能量供应部件关联的该组系数包括误差校正系数，这些误差校正系数被配置成用于校正在该RF能量供应部件的运行中的系统误差。

在一些实施例中，来自该组系数中的一个或多个系数指示该RF能量供应部件对一个电信号的一个电响应。

在一些实施例中，该RF能量供应部件包括一个具有低于30dB的方向性的双向耦合器。

在一些实施例中，该处理器可包括：一个第一处理单元，该第一处理单元被配置成用于接收反馈，并且基于该组系数校正该接收的反馈；以及一个第二处理单元，该第二处理单元被配置成用于基于该校正的反馈来控制该RF能量的施加。

在一些实施例中，该处理器可被配置成用于基于该组系数来校正该接收的反馈；并且基于该校正的反馈来控制该RF能量的施加。

在一些实施例中，该RF能量供应部件包括一个RF能量源。

可替代地或此外，该RF能量供应部件包括一个RF能量传输线。

在一些实施例中，该设备可包括至少两个RF能量供应部件，并且其中，该存储器被配置成用于存储至少两组系数，每组系数与一个对应的RF能量供应部件关联。

在一些实施例中，该处理器被配置成用于在一个扫描阶段过程中接收反馈，并且在一个处理阶段过程中基于在该扫描阶段过程中接收的反馈来控制该RF能量的施加。

在一些实施例中，该处理器被配置成用于在一个扫描阶段过程中接收该反馈，在该扫描阶段内RF辐射从该一个或多个辐射元件发射，以用于确定该物体的一个或多个吸收特性而无需实质性处理该物体。