[发明专利]缺陷检查系统

说明书

本发明的缺陷检查系统具备：输送线，其输送长条带状的薄膜；缺陷检查装置，其进行被输送线输送的薄膜的缺陷检查；以及记录装置(13)，其将基于缺陷检查的结果的缺陷信息记录于被输送线输送的薄膜(F105)，记录装置(13)具有：打印头(13a)，其通过向沿着薄膜(F105)的端缘部的记录区域(S)喷出墨(i)来打印缺陷信息；以及罩(30)，其防止墨(i)附着于薄膜(F105)的至少比记录区域(S)靠内侧的区域。

技术领域

本发明涉及缺陷检查系统。

本申请基于在2013年6月12日申请的日本国专利申请2013-124040号来主张优先权，并在此引用其内容。

背景技术

例如，偏光板等光学薄膜在进行了异物缺陷、凹凸缺陷等缺陷检查后，被卷绕于芯材的周围。通过在光学薄膜的端部打印条形码，或在缺陷位置做标记，将与缺陷的位置、种类相关的信息(以下，称为缺陷信息)记录于光学薄膜。若被卷绕于芯材的光学薄膜的卷绕量达到一定量，则被从上游侧的光学薄膜分离，作为原材料卷出厂。例如，在专利文献1中公开了在光学薄膜的输送线上，具备缺陷检查装置和将缺陷信息记录于薄膜的记录装置的缺陷检查系统。

专利文献1：日本国日本特开2011-7779号公报

然而，在上述的缺陷检查系统中，在将缺陷信息记录于光学薄膜时，由于从打印头喷出的墨向周围飞散，所以有时污染光学薄膜。该光学薄膜的污染为使光学薄膜的产量降低的原因之一。

在缺陷检查系统中，光学薄膜与打印头之间的距离越宽由墨的飞散引起的影响越大。然而，由于缩小光学薄膜与打印头之间的距离给打印尺寸等带来影响，所以不能够轻松地调整该距离。

发明内容

本发明的实施方式是鉴于这样的现有的情况而提出的，目的在于提供一种防止了由将缺陷信息记录于薄膜时的墨的飞散引起的薄膜的污染的缺陷检查系统。

为了实现上述目的，本发明的实施方式所涉及的缺陷检查系统采用以下的结构。

(1)本发明的一个实施方式所涉及的缺陷检查系统具备：输送线，其输送长条带状的薄膜；缺陷检查装置，其进行通过上述输送线输送的薄膜的缺陷检查；以及记录装置，其将基于上述缺陷检查的结果的缺陷信息记录于通过上述输送线输送的薄膜，上述记录装置具有：打印头，其通过向沿着上述薄膜的端缘部的记录区域喷出墨来打印上述缺陷信息；以及罩，其防止墨附着于上述薄膜的至少比上述记录区域靠内侧的区域。

(2)在上述(1)的实施方式中，上述罩也可以具有在上述薄膜和上述打印头相对置的空间中，至少覆盖面向上述薄膜的内侧的一侧的第一侧板部。

(3)在上述(2)的实施方式中，上述罩也可以具有在上述空间中，覆盖面向上述薄膜的输送方向的上游侧的一侧的第二侧板部、以及覆盖面向上述薄膜的输送方向的下游侧的一侧的第三侧板部。

(4)在上述(3)的实施方式中，上述罩也可以具有在上述空间中覆盖面向上述薄膜的外侧的一侧第四侧板部。

(5)在上述(1)～(4)中任一项的实施方式中，上述罩的与上述薄膜对置的面和上述薄膜的表面之间的间隔也可以是1mm以下。

(6)在上述(1)～(5)中任一项的实施方式中，上述罩也可以以拆装自如的方式被安装于上述打印头。

(7)在上述(1)的实施方式中，上述罩也可以在接近上述薄膜的状态下以与上述薄膜对置的方式配置，并且在面对上述记录区域的位置具有窗部。

(8)在上述(1)～(7)中任一项的实施方式中，缺陷检查系统也可以具备位于上述薄膜的输送方向上的比上述记录装置靠上游侧并对上述薄膜的表面除电的静电除去装置。

根据本发明的实施方式，能够提供一种防止了由将缺陷信息记录于薄膜时的墨的飞散引起的薄膜的污染的缺陷检查系统。