[发明专利]透明漫射OLED基底和用于制造这种基底的方法

权利要求书

1.透明漫射OLED基底，其包括以下相继的成分或层：

（a）由具有1.48至1.58的折射率n₁的矿物玻璃制成的透明平坦基底，

（b）通过具有1.45至1.61的折射率n₂的低折射率矿物粘合剂来附接到基底的一面上的矿物颗粒单层，以及

（c）覆盖矿物颗粒单层的由具有包括在1.82和2.10之间的折射率n₄的釉制成的高折射率层，

所述矿物颗粒的折射率n₃包括在n₂+0.08和n₄-0.08之间并从低折射率矿物粘合剂中突出以同高折射率层直接接触，由此形成在矿物颗粒和低折射率粘合剂之间的第一漫射界面（DI₁），以及在矿物颗粒和高折射率层之间的第二漫射界面（DI₂）。

2.根据权利要求1所述的基底，其中所述矿物颗粒具有0.3 μm至10 μm的平均等效球直径。

3.根据权利要求1所述的基底，其中n₁包括在1.50和1.56之间且n₂包括在1.47和1.59之间。

4.根据上述权利要求1所述的基底，其中所述矿物颗粒不含具有大于15 μm的等效球直径的颗粒。

5.根据上述权利要求1所述的基底，其中高折射率层的折射率包括在1.85和2.05之间。

6.根据上述权利要求1所述的基底，其中高折射率层的厚度包括在4 μm和15 μm之间。

7.根据上述权利要求1所述的基底，其中所述矿物颗粒是氧化铝颗粒。

8.根据上述权利要求1所述的基底，其中第一和第二漫射界面的粗糙度轮廓具有包括在0.2和4 μm之间的算术平均偏差R_a。

9.根据上述权利要求1所述的基底，其中矿物颗粒与低折射率矿物粘合剂的体积比包括在0.6和4之间。

10.根据上述权利要求1所述的基底，所述基底进一步包括在高折射率釉层上的透明电传导层。

11.制备根据上述权利要求任一项所述的透明漫射OLED基底的方法，所述方法包括以下相继的步骤：

（1）提供由具有1.48至1.58的折射率n₁的矿物玻璃制成的透明平坦基底；

（2）在矿物粘合剂的至少一种前体的溶胶中分散具有折射率n₃的矿物颗粒，所述矿物粘合剂具有1.45至1.61的折射率n₂；

（3）以形成矿物颗粒单层的量将所得到的分散体施涂于基底的一面上，

（4）通过加热来干燥和烧制所得到的层以得到包括矿物颗粒单层的层，所述矿物颗粒单层通过具有折射率n₂的矿物粘合剂粘合到基底，

（5）将具有1.82至2.10的折射率n₄的高折射率玻璃釉料层施涂到矿物颗粒单层上，

（6）干燥并熔化所述玻璃釉料以得到覆盖矿物颗粒单层的具有包括在1.82和2.10之间的折射率n₄的高折射率釉层；

选择所述矿物颗粒使其具有包括在n₂+0.08和n₄-0.08之间的折射率n₃。

12.根据权利要求11所述的方法，其中矿物粘合剂的至少一种前体选自钠、钾或锂的硅酸盐、四烷氧基硅烷、钛醇盐、铝醇盐、锆醇盐。

13.根据权利要求12所述的方法，其中在步骤（4）的干燥和烧制通过在100℃至300℃的温度下加热来进行。