[发明专利]EUV成像设备

权利要求书

1.一种EUV成像设备(100)，包含：

参考结构(250,400,500)；

第一光学元件(215)，其借助于第一致动器(205)相对所述参考结构(250,400,500)是可致动的，该第一致动器(205)为半主动控制的自保持致动器；以及

第二光学元件(315)，其借助于第二致动器(300)相对所述参考结构(250,400,500)是可致动的，该第二致动器(300)为非自保持致动器，其中借助于控制循环主动控制该第二致动器(300)。

2.如权利要求1所述的EUV成像设备，其中，该第一光学元件(215)在近瞳布置中。

3.如权利要求1所述的EUV成像设备，其中，该第二光学元件(315)在近场布置中。

4.如权利要求1到3中任一项所述的EUV成像设备，其中，该第一光学元件(215)安装于第一支撑结构(425)上，该第一支撑结构附接至该参考结构(250,400,500)；以及

其中，该第二光学元件(315)安装于第二支撑结构(435)上，该第二支撑结构附接至该参考结构(250,400,500)。

5.如权利要求1到3中任一项所述的EUV成像设备，还包含：

至少一个反作用体(400)，补偿在该第二光学元件(315)的致动期间所产生的力。

6.如权利要求1到3中任一项所述的EUV成像设备，其中，该第一光学元件(215)安装于第一支撑结构(425)上，该第一支撑结构附接至该参考结构(250,400,500)；以及

其中该第二光学元件(315)安装于第二支撑结构(535)上，该第二支撑结构机械地与该参考结构(250,400,500)分离。

7.如权利要求1到3中任一项所述的EUV成像设备，其中，该EUV成像设备配置为以规则的间隔、或作为对外部信号的响应而致动该第一致动器(205)，从而校正其位置；以及

借助于控制循环，连续地校正该第二致动器(300)的位置。

8.如权利要求1到3中任一项所述的EUV成像设备，其中，该第一致动器(205)为压电致动器、磁致伸缩致动器或线性马达。

9.如权利要求1到3中任一项所述的EUV成像设备，其中，该第二致动器(300)为洛伦兹致动器。

10.如权利要求1到3中任一项所述的EUV成像设备，其中，该第一光学元件和该第二光学元件(215，315)为反射镜元件。

11.如权利要求1到3中任一项所述的EUV成像设备，其中，该第二光学元件(315)的光学敏感度大于该第一光学元件(215)的光学敏感度。

12.如权利要求1到3中任一项所述的EUV成像设备，还包含：

第一传感器装置(235)，其直接在该第一光学元件(215)上确定该第一光学元件(215)的位置。

13.如权利要求12所述的EUV成像设备，其中，该第一光学元件(215)的位置作为定位该第二光学元件(315)的参考。

14.如权利要求12所述的EUV成像设备，还包含：

第二传感器装置(335)，确定该第二光学元件(315)的位置；

其中，该第一传感器装置(235)配置为以特定时间间隔、或作为对外部信号的响应来确定该第一光学元件(215)的位置，且该第二传感器装置(335)配置为连续地确定该第二光学元件(315)的位置。

15.如权利要求1到3中任一项所述的EUV成像设备，其中，该EUV成像设备为EUV光刻设备(100)。

16.如权利要求1到3中任一项所述的EUV成像设备，其中，该EUV成像装置为掩模度量设备。