[发明专利]基板保持旋转装置、具有基板保持旋转装置的基板处理装置以及基板处理方法

权利要求书

1.一种基板保持旋转装置，其中，具有：

旋转台，能够围绕沿着铅垂方向的旋转轴线旋转，

旋转驱动单元，使所述旋转台旋转，

保持构件，以与所述旋转台一起围绕所述旋转轴线旋转的方式设置在所述旋转台上，从所述旋转台向上方延伸，该保持构件能够在保持位置与退避位置之间移动，该保持位置为，该保持构件将该基板水平保持为所述旋转台与基板在铅垂方向上分离的状态，所述退避位置指，从所述保持位置退避的位置，

保护盘，具有包围所述保持构件的整周的开口、在被所述保持构件保持的基板和所述旋转台之间配置的下表面、从侧方覆盖所述下表面与所述旋转台之间的空间的侧方覆盖部，配置在所述旋转台与被所述保持构件保持的基板保持位置之间，该保护盘能够在下位置与接近位置之间相对于所述旋转台上下移动，所述接近位置指在下位置的上方，与被所述保持构件保持的基板的下表面接近的位置，该保护盘以与所述旋转台一起围绕所述旋转轴线旋转的方式安装在所述旋转台上，该保护盘比被所述保持构件保持的基板大，

磁浮起机构，具有第一磁铁、第二磁铁、第一支撑构件和第一相对移动机构，所述第一磁铁安装在所述保护盘上，所述第二磁铁形成为与所述旋转轴线同轴的环状，且所述第二磁铁对所述第一磁铁施加排斥力，第一支撑构件以非旋转状态支撑所述第二磁铁，所述第一相对移动机构使所述第一支撑构件与所述旋转台相对移动来改变所述第一磁铁与所述第二磁铁之间的距离，所述磁浮起机构借助所述第一磁铁与所述第二磁铁之间的排斥力使所述保护盘从所述旋转台浮起，

磁驱动机构，具有第一磁性体、第二磁性体、第二支撑构件和与所述第一相对移动机构不同的另外的第二相对移动机构，所述第一磁性体安装在所述保持构件，所述第二磁性体形成为与所述旋转轴线同轴的环状，在所述第二磁性体与所述第一磁性体之间产生磁力，所述第二支撑构件以非旋转状态支撑所述第二磁性体，所述第二相对移动机构使所述第二支撑构件与所述旋转台相对移动来改变所述第一磁性体与所述第二磁性体之间的距离，所述磁驱动机构借助所述第一磁性体与所述第二磁性体之间的磁力使所述保持构件保持在所述保持位置，

非活性气体供给单元，该非活性气体供给单元向被所述保持构件保持且进行旋转的基板与配置于所述接近位置的所述保护盘之间供给非活性气体；

所述保护盘的上表面具有：

相向部，配置在被所述保持构件保持的基板的下方，

内向部，从所述相向部的外周向上方延伸，

外周部，从所述内向部的上端向外侧延伸；

由所述内向部和所述外周部在被所述保持构件保持的基板的边缘部形成使所述非活性气体的流路变窄的节流部。

2.如权利要求1所述的基板保持旋转装置，其中，还具有限制构件，所述限制构件在所述接近位置限制所述保护盘相对于所述旋转台向上方移动。

3.如权利要求1所述的基板保持旋转装置，其中，还具有引导机构，该引导机构设置在所述旋转台上，该引导机构引导所述保护盘的上下相对移动。

4.如权利要求1所述的基板保持旋转装置，其中，所述非活性气体供给单元具有非活性气体喷嘴，该非活性气体喷嘴从所述旋转台的旋转中心朝向被所述保持构件保持的基板的周缘部呈放射状地喷出非活性气体。

5.如权利要求1所述的基板保持旋转装置，其中，还具有高度传感器，该高度传感器检测所述下位置与所述接近位置之间的所述保护盘的高度。

6.如权利要求5所述的基板保持旋转装置，其中，

所述基板保持旋转装置还具有与所述保护盘一起沿着上下方向移动的连动构件，

所述高度传感器通过检测所述连动构件的高度，来检测所述保护盘的高度。

7.一种基板处理装置，其中，具有：

权利要求1～6中任一项所述的基板保持旋转装置，

处理液供给单元，向被所述基板保持旋转装置保持的基板的上表面供给处理液。