[发明专利]基板保持旋转装置、具有基板保持旋转装置的基板处理装置以及基板处理方法

说明书

基板处理装置(1)具有旋转台(7)、旋转驱动机构(3)、设置在旋转台(7)上的保持销(10)、用于覆盖基板(W)的下表面的保护盘(15)、使保护盘(15)从旋转台(7)浮起的磁浮起机构(41)。保护盘(15)能够在下位置与接近位置之间上下移动，该接近位置指，在下位置的上方，与基板的下表面接近的位置。磁浮起机构(41)具有保护盘侧永久磁铁(60)、被挡板(4)保持的环状的挡板侧永久磁铁(25)。在通过挡板驱动机构(5)使挡板(4)上升时，能够借助永久磁铁之间的磁排斥力使保护盘(15)从旋转台(7)浮起并保持在接近位置。

技术领域

本发明涉及基板保持旋转装置、具有该基板保持旋转装置的基板处理装置以及基板处理方法。作为保持对象或者处理对象的基板例如包括半导体晶片、液晶显示装置用基板、等离子显示器用基板、FED(Field Emission Display：场发射型显示器)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩模用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等。

背景技术

专利文献1公开了一种旋转式基板处理装置的基板旋转保持构件，具有通过旋转单元进行旋转的旋转台和配设在旋转台上且将基板水平地定位为与旋转台表面隔开规定间隔的支撑单元。在旋转台上设置有大小与基板相等的上下移动构件，在旋转台进行旋转的处理期间，上下移动构件配置在靠近基板的上升位置。由此，基板的下表面与上下移动构件的上表面之间的间隔变小，能够防止在基板处理中产生的雾迂回至基板的下表面。

专利文献1的图1～图3所示的结构为，通过推起机构使上下移动构件相对于旋转台上下移动，该推起机构受到随着旋转台的旋转所产生的离心力进行动作。另外，专利文献1的图7以及图8中公开了如下结构，即，在上下移动构件的外周部设置有风扇，在上下移动构件伴随旋转台的旋转而旋转时，利用风扇将周围的气体向下方按压而产生的举力，举起上下移动构件。

但是，在这些结构中，在基板的旋转速度低时，不能获取充分的离心力或者举力，因此不能使上下移动构件充分地接近基板的下表面，结果，在处理基板时产生的雾有可能附着于基板的下表面。例如，在一边使基板旋转一边用刷子刷洗基板的表面的情况下，基板的旋转速度为100rpm左右，无论如何也不能获取充分的离心力或者举力。因此，在刷洗基板的上表面时，处理液的雾有可能进入基板的下表面和上下移动构件之间，从而污染基板的下表面。

另一方面，在专利文献1的图9以及图10中，公开了采用利用气缸的推起机构使上下移动构件上下移动的结构。另外，在专利文献1的图11以及图12中公开了如下结构，即，在上下移动构件上设置有一端被固定的波纹管，通过对波纹管内进行加压或抽吸来使波纹管伸缩，由此使上下移动构件上下移动。

但是，这些结构都在包括旋转台以及上下移动构件的旋转系统中组装用于上下驱动的驱动单元，由于需要向该驱动单元供给驱动力，因此结构复杂。而且，需要从非旋转系统供给或者抽吸驱动用的空气，因此非旋转系统和旋转系统之间存在与空气供给抽吸路径摩擦接触的滑动部，从滑动部产生的颗粒有可能影响基板处理。

现有技术文献

专利文献

专利文献1美国特许第5601645号说明书

发明内容

发明要解决的问题

本发明的目的在于提供如下的基板保持旋转装置、以及具有这样的基板保持旋转装置的基板处理装置，即，能够不依赖基板的旋转速度来保护基板的下表面，结构简单，而且能够抑制因摩擦接触引起的颗粒的产生。另外，本发明的其他目的在于提供如下的基板处理方法，即，即使在基板的旋转速度低时，也能够可靠地保护基板的下表面，也不需要复杂的结构，且能够抑制因摩擦接触引起的颗粒并能够实现高品质的处理。

用于解决问题的手段