[发明专利]真空泵

说明书

提供抑制螺纹槽的排气侧出口处的气体生成物的产生而在长期内维持泵性能的真空泵。真空泵(1)将在内周侧定子(80)的外周面(80a)沿着气体排气方向(D2)延伸设置的突条部(81)的排气侧端部(81b)比吸气侧端部(81a)朝向转子旋转方向(R)的前方加宽地形成，具备流入抑制壁(83)，流入抑制壁(83)抑制雕刻设置在突条部(81)之间的螺纹槽(82)的排气侧出口(82a)处的气体的滞留。

技术领域

本发明涉及真空泵，尤其涉及能够在中真空至超高真空的压力范围内利用的真空泵。

背景技术

在制造存储器或集成电路等半导体装置时，为了避免空气中的尘土等所造成的影响，有必要在高真空状态的室内对高纯度的半导体基板(晶圆)进行掺杂或蚀刻，在室内的排气中，例如，使用涡轮分子泵等真空泵。

作为这样的真空泵，已知如下的真空泵：具备螺纹槽泵机构，该机构由具有外筒转子和内筒转子的转子、具有交替地定位在外筒转子与内筒转子之间的外筒定子和内筒定子的定子、以及在定子的与转子对置的壁面雕刻设置的螺纹槽构成，气体在螺纹槽泵机构内沿上下方向以S字状升降而排气(例如，参照专利文献1)。

另外，作为另一真空泵，已知如下的真空泵：具备螺纹槽泵机构，该机构由大致圆筒状的壳体、配置在壳体的轴线部的大致圆筒状的定子、以转子轴能够旋转驱动的方式由定子的轴线部支撑且在壳体与定子之间具有大致圆筒状的筒部的转子、分别设置在壳体的与筒部对置的内周面和定子的与筒部对置的外周面的突条部、以及螺纹槽构成，气体在螺纹槽泵机构内从上下方向的上方排气至下方(例如，参照专利文献2)。

在先技术文献

专利文献

专利文献1：日本专利第3961273号公报。

专利文献2：日本实开平5-38389号公报。

发明内容

发明要解决的课题

然而，在如上所述的前一真空泵中，如图7所示，内筒定子90的螺纹槽91的排气侧出口91a附近的气体越过突条部92的排气侧端部92a而流入内筒转子93的旋转方向R的前方的螺纹槽91(由图7中的箭头A表示流入的气流)，在气体流入的螺纹槽91的排气侧出口91a附近，气流紊乱而容易产生气体的滞留。

另外，在螺纹槽泵机构的排气部，例如内筒定子90的上端面90a附近，如图8中的箭头B所示，气体有时候不是输送至内筒定子90的内周侧，而是沿着内筒转子93的旋转方向R以环状回旋并滞留。如图8中的箭头C所示，这样的滞留于排气部的气体逆流至内筒定子90的外周侧，在气体逆流的螺纹槽91的排气侧出口91a附近，气流紊乱而容易产生气体的滞留。

另外，在如上所述的前一和后一真空泵中，在转子的筒部的下端面，压缩后的气体有时候沿着转子旋转方向以环状回旋并滞留。回旋并滞留的气体在螺纹槽泵机构内逆流至上方而使螺纹槽的排气侧出口处的气流紊乱，气体有时候滞留在螺纹槽的排气侧出口。

由于如果如上所述地气体滞留于螺纹槽的排气侧出口，则所滞留的气体在高压下固化而气体生成物堆积，螺纹槽的排气侧出口的流路变窄，因而有可能压缩比下降，泵性能下降。

于是，产生为了抑制螺纹槽的排气侧出口处的气体生成物的产生并在长期内维持泵性能而应该解决的技术课题，本发明的目的在于解决该课题。

用于解决课题的方案