[发明专利]光固化性组合物和使用其制造光学组件的方法有效

专利信息
申请号: 201480036474.X 申请日: 2014-06-19
公开(公告)号: CN105340061B 公开(公告)日: 2017-12-22
发明(设计)人: 米泽诗织;伊藤俊树;山下敬司;千叶启子;川崎阳司 申请(专利权)人: 佳能株式会社
主分类号: H01L21/027 分类号: H01L21/027;B29C59/02;C08F2/44;C08F20/50
代理公司: 北京魏启学律师事务所11398 代理人: 魏启学
地址: 日本东京都大*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 光固化 组合 使用 制造 光学 组件 方法
【权利要求书】:

1.一种用于制造图案化膜的方法,其特征在于,所述方法包括:

将光固化性组合物放置到基板上的步骤;

在含冷凝性气体的气氛中,使所述光固化性组合物与模具接触的步骤,所述模具具有用于转印图案形状的原始图案;

用光照射所述光固化性组合物以形成固化膜的步骤;和

将所述固化膜与所述模具彼此分离的步骤,

其中,所述光固化性组合物包含:

组分A,其为(甲基)丙烯酸酯单体;

组分B,其为光聚合引发剂;和

组分C,其为脱模剂,

其中在5摄氏度和1大气压下所述组分C在所述冷凝性气体中的饱和溶解度为5重量%以下,所述冷凝性气体在5摄氏度和1大气压下为液态,且所述组分C相对于所述光固化性组合物的总重量的存在比为0.01重量%以上且5重量%以下。

2.根据权利要求1所述的方法,其中在5摄氏度和1大气压下所述组分C在液态的所述冷凝性气体中的饱和溶解度小于1重量%。

3.根据权利要求1所述的方法,其中所述组分C包含烯化氧基或烯化氧基的重复结构和烃基。

4.根据权利要求1所述的方法,其中所述组分C是由下式(3)表示的化合物:

[化学式3]

其中,Rc表示具有5个以上且50个以下的碳原子的单价烃基,Ra表示亚烷基,m表示1以上的整数,和X表示选自烷氧基、羟基、羧基、吡啶基、硅烷醇基和磺基中的一种。

5.根据权利要求4所述的方法,其中Rc表示具有10个以上且30个以下的碳原子的单价直链烃基,和Ra表示亚乙基。

6.根据权利要求1所述的方法,其中所述组分C是由下式(4)表示的化合物:

[化学式4]

7.根据权利要求1所述的方法,其中在5摄氏度和1大气压下所述组分C在液态的所述冷凝性气体中的饱和溶解度高于在5摄氏度和1大气压下所述组分A在液态的所述冷凝性气体中的饱和溶解度。

8.根据权利要求1所述的方法,其中所述组分A含有丙烯酸异冰片酯和1,10-癸二醇二丙烯酸酯。

9.根据权利要求1所述的方法,其中所述含有冷凝性气体的气氛为含有所述冷凝性气体和非冷凝性气体的混合气体。

10.根据权利要求9所述的方法,其中所述非冷凝性气体为氦气。

11.根据权利要求1所述的方法,其中所述冷凝性气体为选自氯氟烃、氟烃、氢氯氟烃、氢氟烃和氢氟醚的一种。

12.根据权利要求1所述的方法,其中所述冷凝性气体为1,1,1,3,3-五氟丙烷。

13.根据权利要求1所述的方法,其中所述冷凝性气体是在使所述光固化性组合物与模具接触的步骤中当所述光固化性组合物渗入所述基板与所述模具之间的间隙和所述模具的表面上的微细图案中的凹部时产生的压力下冷凝并液化的气体。

14.根据权利要求1所述的方法,其中所述模具的原始图案的表面由石英组成。

15.根据权利要求1所述的方法,其中所述含冷凝性气体的气氛为含有所述冷凝性气体和非冷凝性气体的混合气体。

16.根据权利要求15所述的方法,其中所述非冷凝性气体为氦气。

17.根据权利要求1至16任一项所述的方法,其中所述冷凝性气体为选自氯氟烃、氟烃、氢氯氟烃、氢氟烃和氢氟醚的一种。

18.根据权利要求1至16任一项所述的方法,其中所述冷凝性气体为1,1,1,3,3-五氟丙烷。

19.一种制造光学组件的方法,其特征在于,该方法包括:

通过根据权利要求1至18任一项所述的方法,在基板上获得图案化膜的步骤。

20.一种制造光学组件的方法,其特征在于,该方法包括:

通过根据权利要求1至18任一项所述的方法获得图案化膜的步骤;和

通过使用所获得的图案化膜的图案形状作为掩模,在基板上进行蚀刻或离子注入的步骤。

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