[发明专利]涂敷装置及涂敷装置的控制方法有效
申请号: | 201480037916.2 | 申请日: | 2014-06-10 |
公开(公告)号: | CN105451894B | 公开(公告)日: | 2018-05-25 |
发明(设计)人: | 远藤幸一郎 | 申请(专利权)人: | 三键精密化学有限公司 |
主分类号: | B05C5/02 | 分类号: | B05C5/02;B05C11/10;B05D1/26 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 金成哲;宋春华 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 缓冲室 涂敷液 涂敷装置 涂敷部 流体阻力 阻力通道 供给部 供给口 开闭阀 基材 狭缝喷嘴 涂敷膜 错乱 分配 始端 涂敷 吐出 连通 施加 上游 | ||
1.一种涂敷装置,包括供给涂敷液的供给部和涂敷部,所述涂敷部将从所述供给部所供给的所述涂敷液相对于基材以规定的宽度涂敷,
所述涂敷装置的特征在于,
所述涂敷部具有:
供给口,供给所述涂敷液;
第1缓冲室,将从所述供给口流入的所述涂敷液在所述宽度方向上分配;
阻力通道,相对于从所述第1缓冲室流入的所述涂敷液施加比所述第1缓冲室中的流体阻力大的流体阻力;
第2缓冲室,将从所述阻力通道流入的所述涂敷液在所述宽度方向上分配;以及
狭缝喷嘴,将从所述第2缓冲室流入的所述涂敷液相对于所述基材以所述规定的宽度吐出,
所述第2缓冲室的一部分由连通路构成,所述连通路设置于所述涂敷液的开闭阀,所述涂敷液从所述供给部供给并通过所述狭缝喷嘴吐出,
所述开闭阀具有在所述宽度方向上延伸的圆柱形状,所述连通路构成所述第2缓冲室的一部分,并且以连通所述第2缓冲室的上游与下游的方式设置于所述开闭阀的内部。
2.根据权利要求1所述的涂敷装置,其特征在于,
所述涂敷部具备对所述供给口、所述第1缓冲室、所述阻力通道及所述第2缓冲室进行收纳的壳体,所述壳体在所述第2缓冲室的下游具有保持所述狭缝喷嘴的喷嘴保持部件,
所述狭缝喷嘴相对于所述涂敷液的吐出方向能够在直角方向上装卸。
3.根据权利要求1所述的涂敷装置,其特征在于,
所述开闭阀配置在所述第2缓冲室的内部即在下游所配置的所述狭缝喷嘴的附近,并且所述连通路的宽度与所述第2缓冲室的宽度大致相同。
4.根据权利要求2所述的涂敷装置,其特征在于,
所述开闭阀配置在所述第2缓冲室的内部即在下游所配置的所述狭缝喷嘴的附近,并且所述连通路的宽度与所述第2缓冲室的宽度大致相同。
5.根据权利要求1至4中任意一项所述的涂敷装置,其特征在于,
通过所述开闭阀进行开阀及闭阀而能够停止及重启所述涂敷液从所述狭缝喷嘴的吐出,
在所述开闭阀从闭阀向开阀切换时,所述涂敷液填充到所述狭缝喷嘴的顶端。
6.根据权利要求1至4中任意一项所述的涂敷装置,其特征在于,
所述阻力通道的进深设定为比所述第1缓冲室的进深小。
7.根据权利要求5所述的涂敷装置,其特征在于,
所述阻力通道的进深设定为比所述第1缓冲室的进深小。
8.一种涂敷装置,包括供给涂敷液的供给部和涂敷部,所述涂敷部将从所述供给部所供给的所述涂敷液相对于基材以规定的宽度涂敷,
所述涂敷装置的特征在于,
所述涂敷部具有:
供给口,供给所述涂敷液;
缓冲室,将从所述供给口流入的所述涂敷液在所述宽度方向上分配;以及
狭缝喷嘴,将从所述缓冲室流入的所述涂敷液相对于所述基材以所述规定的宽度吐出,
所述缓冲室由连通路构成,所述连通路设置于所述涂敷液的开闭阀,所述涂敷液从所述供给部供给并通过所述狭缝喷嘴吐出,
所述开闭阀具有在所述宽度方向上延伸的圆柱形状,所述连通路构成所述缓冲室,并且以连通所述缓冲室的上游与下游的方式设置于所述开闭阀的内部。
9.根据权利要求8所述的涂敷装置,其特征在于,
所述开闭阀配置在所述缓冲室的内部即在下游所配置的所述狭缝喷嘴的附近。
10.根据权利要求8所述的涂敷装置,其特征在于,
通过所述开闭阀进行开阀及闭阀而能够停止及重启所述涂敷液从所述狭缝喷嘴的吐出,
在所述开闭阀从闭阀向开阀切换时,所述涂敷液填充到所述狭缝喷嘴的顶端。
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