[发明专利]减小目标样品的厚度的方法有效

专利信息
申请号: 201480039553.6 申请日: 2014-05-12
公开(公告)号: CN105593967B 公开(公告)日: 2017-08-15
发明(设计)人: 克里斯蒂安·朗;彼得·斯泰瑟姆;谢里尔·哈特菲尔德 申请(专利权)人: 牛津仪器纳米技术工具有限公司
主分类号: H01J37/304 分类号: H01J37/304;H01J37/305
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 顾红霞,何胜勇
地址: 英国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 减小 目标 样品 厚度 方法
【权利要求书】:

1.一种减小目标样品的区域的厚度的方法,包括:

a)得到基准数据,所述基准数据表示在第一组射束条件下由粒子束与基准样品的一部分相互作用而产生的x射线,其中,所述基准样品具有预定的成分;

b)在第二组射束条件下使粒子束冲击所述目标样品的所述区域;

c)对由所述粒子束与所述目标样品之间的相互作用而产生的x射线进行监测,以产生监测数据;

d)基于所述监测数据和所述基准数据计算输出数据;以及

e)根据所述输出数据从所述目标样品的所述区域中去除材料,以减小所述区域的厚度,其中,根据所述目标样品的所述区域的模型计算所述输出数据。

2.根据权利要求1所述的方法,其中,所述基准样品具有已知的尺寸或足以用作对所述粒子束响应的体材料的尺寸。

3.权利要求1所述的方法,其中,根据理论表示进行步骤(a),在所述理论表示中,基于产生的x射线的收集立体角并根据所述第一组射束条件来计算所述基准数据。

4.权利要求1所述的方法,其中,通过在所述第一组射束条件下使所述粒子束冲击物理基准样品的一部分并监测由所述粒子束与所述基准样品之间的相互作用而产生的x射线以产生所述基准数据,来得到步骤(a)中的所述基准数据。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中,在相同设备中原位进行步骤(a)至(e)中的每一个步骤。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中,在聚焦离子束扫描电子显微镜中进行步骤(a)至(e)中的每一个步骤。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中,利用x射线检测器监测所述x射线,并且所述基准样品和所述x射线检测器之间的收集立体角与所述目标样品和所述x射线检测器之间的收集立体角相同。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中,所述第一组射束条件与所述第二组射束条件不同。

9.根据权利要求8所述的方法,其中,所述第一组射束条件和所述第二组射束条件包括射束电流,并且所述方法还包括监测所述第一组射束条件和所述第二组射束条件中的一者或每一者的射束电流。

10.根据权利要求9所述的方法,其中,基于根据所述第一组射束条件和所述第二组射束条件的所述射束电流计算所述输出数据。

11.根据权利要求8所述的方法,其中,使用以下各项中至少一者监测所述射束电流:法拉第杯、具有相关的电流监测器的电子吸收性材料、利用电子背散射检测器设备监测的已知基准材料。

12.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中,所述目标样品的所述区域的厚度减小至预定厚度。

13.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,还包括得到厚度减小值,其中,步骤(e)根据所述输出数据和所述厚度减小值减小所述区域的厚度。

14.根据权利要求13所述的方法,还包括重复步骤(b)至(e)直到所述区域具有所述预定厚度或所述区域的厚度减小了所述厚度减小值为止。

15.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中,利用聚焦离子束进行从所述目标样品的所述区域中去除材料。

16.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中,所述粒子束是电子束或x射线束。

17.根据权利要求1至4中任一项所述的方法,其中,所述射束条件包括射束能量、射束电流或射束持续时间中的一者或每一者。

18.根据权利要求1所述的方法,其中,所述模型包括预测因已知的结构和成分的样本被已知特性的电子束冲击而产生的x射线能谱。

19.根据权利要求1所述的方法,其中,所述模型包括基于所述基准数据预测所述目标样品的所述区域中的一个或多个元素的k比率以得到预测的k比率。

20.根据权利要求19所述的方法,其中,通过将所述预测的k比率与从所述监测数据产生的所述k比率进行比较来计算所述输出数据。

21.根据权利要求18所述的方法,其中,所述模型包括基于所述基准数据预测所述目标样品的所述区域中的一个或多个元素的k比率以得到预测的k比率。

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